[发明专利]一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品

权利要求书

1.一种可热处理的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和在所述玻璃基板表面向外设置的多个介质层及至少两个红外反射层，每个红外反射层位于两个介质层之间，其特征在于：多个介质层中至少有一层包括ZnSnMgOx膜层或ZnSnNiOx膜层，其中x的范围为0<x<4。

2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射镀膜玻璃包括两个红外反射层，所述红外反射层和介质层在所述玻璃基板表面由内向外按照以下顺序依次设置：第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层和第三介质层；其中第一介质层的厚度为10～40nm，第一红外反射层和第二红外反射层的厚度均为7～20nm，第二介质层的厚度为40～100nm，第三介质层的厚度为20～70nm。

3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射镀膜玻璃包括三个红外反射层，所述红外反射层和介质层在所述玻璃基板表面由内向外按照以下顺序依次设置：第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、第三介质层、第三红外反射层和第四介质层；其中第一介质层的厚度为10～40nm，第一红外反射层、第二红外反射层和第三红外反射层的厚度均为7～20nm，第二介质层和第三介质层的厚度均为40～80nm，第四介质层的厚度为20～100nm。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述红外反射层为银层或含银的合金层。

5.根据权利要求2或3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述第一红外反射层和所述第二介质层之间设置第一阻隔层，其中所述第一阻隔层的厚度为0.5～10nm，所述第一阻隔层的材料为从Ti、Ni、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金属及其合金的金属、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中选择至少一种。

6.根据权利要求2或3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述第二红外反射层和所述第三介质层之间设置第二阻隔层，其中所述第二阻隔层的厚度为0.5～10nm，所述第二阻隔层的材料为从Ti、Ni、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金属及其合金的金属、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中选择至少一种。

7.根据权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述第三红外反射层和所述第四介质层之间设置第三阻隔层，其中所述第三阻隔层的厚度为0.5～10nm，所述第三阻隔层的材料为从Ti、Ni、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金属及其合金的金属、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中选择至少一种。

8.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：还包括保护层，所述保护层作为最外层而设置在最远离玻璃基板的红外反射层上方的介质层之上，其中所述保护层的厚度为0.5～50nm。

9.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnMgOx膜层时，在所述ZnSnMgOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Mg)/Sn的比例在0.5～4之间，Mg/(Zn+Mg)的比例在0.005～0.5之间；当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnNiOx膜层时，在所述ZnSnNiOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Ni)/Sn的比例在0.5～4之间，Ni/(Zn+Ni)的比例在0.005～0.5之间。

10.根据权利要求9所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnMgOx膜层时，在所述ZnSnMgOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Mg)/Sn的比例在1.5～2.5之间，Mg/(Zn+Mg)的比例在0.01～0.25之间；当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnNiOx膜层时，在所述ZnSnNiOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Ni)/Sn的比例在1.5～2.5之间，Ni/(Zn+Ni)的比例在0.01～0.25之间。