[发明专利]慧星像差检测方法以及慧星像差检测装置在审
申请号: | 201210261780.6 | 申请日: | 2012-07-26 |
公开(公告)号: | CN102751214A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 王磊;沈海洲;曹圣豪 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 慧星 检测 方法 以及 装置 | ||
1.一种慧星像差检测方法,其特征在于包括:
第一步骤:将光刻掩膜版布置在光刻掩膜版放置平台上;
第二步骤:执行校准以便使光刻掩膜版放置平台上的光刻掩膜版对准;
第三步骤:向光刻掩膜版放置平台上的光刻掩膜版基准板垂直地透射光线,以使光线依次通过光刻掩膜版基准板背面的空中图像传感器标记、聚光透镜以及晶圆放置平台上的空中图像传感器开口,通过反射镜的反射到达空中图像传感器检测系统;
第四步骤:所述空中图像传感器检测系统收集与所述聚光透镜相关的慧星像差数据。
2.根据权利要求1所述的慧星像差检测方法,其特征在于,所述慧星像差检测方法用于投影光刻机的慧星像差检测。
3.一种慧星像差检测装置,其特征在于包括:光刻掩膜版放置平台、布置在所述光刻掩膜版放置平台上的光刻掩膜版基准板、布置在所述光刻掩膜版基准板背面的空中图像传感器标记、晶圆放置平台、布置在所述晶圆放置平台上的空中图像传感器开口、布置在所述晶圆放置平台内的反射镜、空中图像传感器检测系统、以及布置在所述晶圆放置平台和所述光刻掩膜版放置平台之间的聚光透镜;
其中,当光线垂直地透射所述光刻掩膜版基准板时,所述光线依次通过光刻掩膜版基准板背面的空中图像传感器标记、聚光透镜以及晶圆放置平台上的空中图像传感器开口,通过反射镜的反射到达空中图像传感器检测系统;
并且其中,所述空中图像传感器检测系统收集与所述聚光透镜相关的慧星像差数据。
4.根据权利要求1或2所述的慧星像差检测装置,其特征在于,所述慧星像差检测装置用于投影光刻机的慧星像差检测。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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