[发明专利]光学记录介质、记录/再生装置、记录/再生方法无效

专利信息
申请号: 201210260806.5 申请日: 2012-07-25
公开(公告)号: CN102915748A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 铃木义则;藤家和彦;关口浩司 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B7/0045;G11B7/005;G11B7/1372
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 记录 介质 再生 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光学记录介质,其用作上面形成了配置有多个小记录载体的轨道的图案介质,在小记录载体中,通过与光照射对应的调制保持记录状态,并且通过轨道上的小记录载体的记录/非记录(或擦除)图案来表达记录信息。

此外,本技术涉及记录/再生装置以及对用作图案介质的光学记录介质执行记录和再生的方法。

背景技术

例如,诸如光盘(CD)、数字多功能盘(DVD)、蓝光光盘(BD)(注册商标)的所谓的光盘记录介质(可以简称为“光盘”),已被广泛传播作为通过光照射来记录和再生信息的光学记录介质。

在光盘上,进行了记录/再生光波长的减小以及物镜的数值孔径的增大。因此,减小了记录/再生的光束斑小大,并导致了高记录容量和高记录密度。

然而,在光盘中,使用空气作为物镜和光盘之间的介质,因此难以将对于焦点的大小(直径)有影响的数值孔径NA增大到大于“1”。

具体地,当物镜的数值孔径为NAobj,并且光的波长为λ时,如下表示穿过物镜照射在光盘上的光斑大小:

λ/NAobj

此时,当介于物镜和光盘之间的介质的折射率为nA,并且物镜周围的光束的入射角为θ时,如下表示数值孔径NAobj

NAobj=nA×sinθ

从该公式可以看出,只要介质是空气(nA=1),则难以将数值孔径NAobj增大至大于1。

在这方面,如在日本专利申请公开(JP-A)第2010-33688号、日本专利申请公开(JP-A)第2009-134780号等中披露的,已经提出了使用近场光(渐消失光)来实现NAobj>1的记录/再生方法(近场方法)。

已知该近场方法通过用近场光照射光盘来记录或再生信息,并且使用固体浸没透镜(以下称为“SIL”)作为用于用近场光照射光盘的物镜(例如,参见JP-A第2010-33688号和JP-A第2009-134780号)。

图17是描述使用SIL的现有技术的近场光学系统的示图。

图17说明了其中使用超半球形的SIL(超半球SIL)作为SIL的实例。具体地,在该情况下的超半球ISIL中,对象侧(物体侧,即,面向作为记录/再生目标的记录介质的一侧)具有平面形,而其他部分具有超半球形。

在该情况下,物镜配置为包括作为前透镜的超半球SIL的两组透镜。如图17所示,使用双面非球面透镜作为后透镜。

这里,当入射光的入射角为θi,并且超半球SIL的结构材料的折射率为nSIL时,具有图17示出的构造的物镜的有效数值孔径NA如下表示:

NA=nSIL2×sinθi

通过该公式,当采用图17中示出的物镜构造时,通过将SIL的折射率nSIL设置为大于“1”(大于空气的折射率),可以使有效数值孔径NA大于“1”。

在现有技术中,例如,SIL的折射率nSIL大约设置为2,因此实现了大约1.8的有效数值孔径NA。

这里,在近场光学系统中,使用半球形的SIL(半球SIL)以及超半球SIL。

当将半球SIL而不是图17中示出的超半球SIL用于物镜时,有效数值孔径NA如下:

NA=nSIL×sinθi

通过该公式,即使在使用半球SIL时,当使用nSIL的高折射率材料作为SIL的构造材料时,也能实现NA>1。

此时,与超半球SIL的情况下的公式相比,当SIL的构造材料(折射率)在超半球形和半球形的情况下都相同时,使用超半球SIL的情况下的有效数值孔径NA更高。

为了确认,以执行将由SIL生成的NA>1的传播(照射)光记录/再生到记录介质,需要将SIL的对象面和记录介质配置为相互非常靠近。SIL的对象面和记录介质(记录面)之间的距离称为间隙。

在近场方法中,需要将间隙值抑制到等于或小于光波长的至少四分之一(1/4)。

同时,在现有技术中,已经进行了对光学记录介质的结构的研究,以实现高记录密度。例如,如在日本专利申请公开第2006-73087号中披露的,已经提出了所谓的图案介质的光学记录介质结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210260806.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top