[发明专利]厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法

权利要求书

1.一种厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：利用沉积膜层的方法在多个基片上形成具有相同标记图案的膜层台阶，相邻基片上的所述膜层台阶的高度等差递增；

步骤2：利用沉积膜层的方法在基底上形成多个并列设置的条状膜层结构；该条状膜层结构与基片上的标记图案互补，所述基片上的膜层台阶可以插接在任意一个条状膜层结构上；

步骤3：按照所述基片上的膜层台阶的高度的不同，按照从低到高的次序，将所述基片并列的插接在所述基底上；多个所述基片的与膜层台阶相对的一面形成台阶结构；

步骤4：在台阶结构的表面沉积增反射膜和保护膜。

2.根据权利要求1所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，所述步骤3中，在将所述基片插接在所述基底上以后，还包括在所述基底与所述基片之间的高度精密调整及空隙填充固化剂的步骤。

3.根据权利要求1所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，在步骤1之前，还包括对基片进行处理的步骤，具体为：将基片的左侧面和右侧面进行研磨并抛光，均使其表面粗糙度达到0.1nm～1μm，左侧面平行于右侧面。

4.根据权利要求1所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，

所述步骤1中，在多个基片上形成膜层台阶时，同一个高度的膜层台阶的基片同时制作两片，以使调整时保证操作台平稳。

5.根据权利要求1-4任一所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，

形成膜层台阶或者条状膜层结构时，所采用的薄膜或厚膜材料为：硅、二氧化硅、铝、金、铜、氮化硅、钼、钛或镍。

6.根据权利要求1-4任一所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，

形成膜层台阶或者条状膜层结构时，薄膜或厚膜材料采用磁控溅射、射频溅射、离子束溅射、直流溅射、电子束蒸发、热蒸发和电铸方法中的任意一种。

7.根据权利要求1-4任一所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，所述基片的材料为：硅片、玻璃、石英、铝片、钛片或铜片。

8.根据权利要求1-4任一所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，所述基底的材料为：玻璃、硅、陶瓷、石英或铝。

9.根据权利要求1-4任一所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，所述增反射膜采用磁控溅射、射频溅射、离子束溅射、直流溅射、电子束蒸发或热蒸发方法沉积。

10.根据权利要求1-4任一所述的制作多级微反射镜的方法，其特征在于，所述保护膜层材料采用MgF₂、Al₂O₃或SiO₂。