[发明专利]用于经皮治疗的微波装置

权利要求书

1.一种装置，该装置包括：

外壳，该外壳具有用于微波发射治疗末端的连接点和用于连接到所述连接点的波导的通道，其中所述波导在把手端离开所述外壳；

微波发射治疗末端，该微波发射治疗末端具有能够接触子宫或膀胱的组织的远端，所述治疗末端在功能上连接到所述连接点，以将来自所述波导的能量传递到所述治疗末端的所述远端，并且所述治疗末端包括可替换的无孔保护盖；和

控制系统，该控制系统用于改变脉冲长度、频率和幅度并且将所述能量发送到所述治疗末端，所述能量在大约300MHz到大约30GHz的微波频率范围内，并且所述脉冲被设计成在所述组织的表面之下的组织中产生加热效应。

2.根据权利要求1所述的装置，其中双极微波功率被使用。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述控制系统测量在治疗期间的能量反射，以便调节被输送到所述治疗末端的能量的幅度、脉冲数、脉冲持续时间或频率中的一个或多个。

4.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述连接点包括介电组成物。

5.根据权利要求1所述的装置，其中所述末端包括介电组成物。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述介电组成物包括特氟隆。

7.根据权利要求5所述的装置，其中所述介电组成物的阻抗被选择成在大约433MHz到大约5800MHz的频率范围内将能量输送到膀胱或子宫组织。

8.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述治疗末端具有凸出远端末端。

9.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述治疗末端具有尖头远端末端。

10.根据权利要求1所述的装置，其中一屏蔽区域围绕所述治疗末端的实体部分。

11.根据权利要求2所述的装置，其中一屏蔽区域围绕所述治疗末端的实体部分。

12.根据权利要求10所述的装置，其中所述治疗末端的远端延伸超出所述屏蔽区域在大约0.1mm到大约5mm之间。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述治疗末端的远端延伸超出所述屏蔽区域大约1mm。

14.根据权利要求1所述的装置，其中所述治疗末端被配置成在具有大约10mm³的体积的组织内生成微波场。