[发明专利]抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：

具有由式(I)表示的结构单元的树脂，

在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，

酸生成剂，和

具有由式(IA)表示的阴离子的盐，

其中R¹表示氢原子或甲基；

A¹表示C₁至C₆烷二基；

A¹³表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₈二价脂族烃基；

X¹²表示*-CO-O-或*-O-CO-；

*表示与A¹³的连接；

A¹⁴表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₇脂族烃基；

其中R^1A和R^2A独立地表示氢原子、C₁至C₁₂脂族烃基、C₃至C₂₀脂环族烃基、C₆至C₂₀芳香族烃基或C₇至C₂₁芳烷基，在所述脂族烃基、所述脂环族烃基、所述芳香族烃基和所述芳烷基中所含有的一个或多个氢原子可以被羟基、氰基、氟原子、三氟甲基或硝基代替，在所述脂族烃基中所含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；或R^1A和R^2A可以连接以形成至少一个含有氮原子的C₄至C₂₀环。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是1，2-亚乙基。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹³是C₁至C₆全氟烷二基。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的X¹²是*-CO-O-，*表示与A¹³的连接。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹⁴是环丙基甲基、环戊基、环己基、降冰片基或金刚烷基。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中所述具有由式(IA)表示的阴离子的盐含有由式(IB)表示的阳离子；

其中R³、R⁴和R⁵每一次出现时独立地表示羟基、卤素原子、C₁至C₁₂烷基、C₃至C₁₈脂环族烃基或C₁至C₁₂烷氧基，或者R³、R⁴和R⁵中的两个可以连接在一起以形成含硫环，在所述烷基、所述脂环族烃基和所述烷氧基中所含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子、羟基、C₁至C₁₂烷氧基、C₆至C₁₈芳香族烃基、C₂至C₄酰基或缩水甘油基氧基代替，

mx、my和mz独立地表示0至5的整数。

7.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。

8.一种用于制备抗蚀图案的方法，所述方法包括下列步骤：

(1)将权利要求1所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上；

(2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层；

(3)将所述组合物层曝光；

(4)将曝光的组合物层加热，和

(5)将加热的组合物层显影。