[发明专利]一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法

权利要求书

1.一种三维有序大孔Bi₂WO₆光催化材料的制备方法，为模板法，其特征在于，包括如下具体步骤：

a)将硝酸铋或氯化铋与磷钨酸按化学计量比溶解于乙醇与硝酸或盐酸形成的混合溶液中，搅拌使形成透明前驱体溶液；

b)将单分散SiO₂纳米球颗粒高速离心成块状，然后干燥，获得块状三维有序SiO₂光子晶体模板；

c)将步骤b)获得的块状三维有序SiO₂光子晶体模板浸入步骤a)制得的透明前驱体溶液中，于50～70℃干燥成块状固体后在氨气氛中熏蒸12小时以上；

d)干燥、在400～500℃煅烧，获得结晶Bi₂WO₆；

e)用碱溶液浸泡步骤d)获得的结晶Bi₂WO₆，以去除其中的SiO₂光子晶体模板，获得三维有序大孔Bi₂WO₆光催化材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述透明前驱体溶液中含Bi的摩尔浓度为0.1～0.2mol/L。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤a)中所述混合溶液是由乙醇与硝酸或盐酸按体积比2:1～3:1混合形成。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述单分散SiO₂纳米球颗粒的粒径为80～120nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤b)中所述的高速离心是指在8000～12000转/分钟下离心10～20分钟。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在氨气氛中于60～80℃熏蒸12～36小时。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在400～500℃煅烧1～3小时。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤e)中所述的碱溶液选自摩尔浓度为2～4mol/L的氢氧化钠水溶液。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤e)中所述碱溶液浸泡的时间为24～48小时。