[发明专利]一种用于大面积摩擦诱导微/纳米加工的多针尖阵列的制作方法有效
申请号: | 201210246472.6 | 申请日: | 2012-07-17 |
公开(公告)号: | CN102786028A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 钱林茂;陈磊;吴治江;余丙军;周仲荣 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 成都博通专利事务所 51208 | 代理人: | 陈树明 |
地址: | 610031 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 大面积 摩擦 诱导 纳米 加工 针尖 阵列 制作方法 | ||
1.一种用于大面积摩擦诱导微/纳米加工的多针尖阵列的制作方法,其步骤为:
(a)将蜡片基底置于显微硬度仪的的工作台上,使显微硬度仪的压头对蜡片基底表面进行压痕,加工出压痕阵列;
(b)将大小一样的微球逐个置于压痕阵列的各个压痕上;
(c)采用平整光滑的压片覆盖在蜡片基底的微球上,对压片施加载荷使各个微球同时压入蜡片中,压入深度为微球半径的0.7-1.0倍,且各个微球的压入深度一致,在蜡片基底上形成微球阵列;
(d)将浇注框压在蜡片基底上,并使浇注框框住微球阵列;
(e)往浇注框内浇注镶嵌料溶液,使其淹没微球阵列;
(f)待镶嵌料溶液凝固后,加热熔化去除蜡片,再将镶嵌料从浇注框内中取出,并将其无微球的背面抛光为平面,即得到用于大面积摩擦诱导微/纳米加工的多针尖阵列。
2.根据权利要求1所述的一种用于大面积摩擦诱导微/纳米加工的多针尖阵列的制作方法,其特征在于:所述的压片的粗糙度在1nm以下。
3.根据权利要求1所述的一种用于大面积摩擦诱导微/纳米加工的多针尖阵列的制作方法,其特征在于:所述的镶嵌料是任意一种可在室温中凝固、且凝固后的熔点高于蜡片熔点的镶嵌料。
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