[发明专利]正型光致抗蚀剂剥离剂组合物

权利要求书

1.一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其特征在于包括：a)1-20重量份的N，N-二乙基羟基胺；b)1-70重量份的二甘醇单烷基醚；c)1-5重量份的[式1]所示的化合物；d)1-5重量份的[式2]所示的化合物；

[式1]，其中R’为氢，或具有1至4个碳原子的烷基，

[式2]。

2.根据权利要求1所述的正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其中，还含有e)0.01-10重量份的非离子表面活性剂。

3.根据权利要求1所述的正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其中，还含有f)20-90重量份的非质子极性溶剂。

4.根据权利要求1所述的正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述的二甘醇单烷基醚是选自丁基乙二醇、丁基二乙二醇、丁基三甘醇、甲基乙二醇、甲基二乙二醇、甲基三乙二醇、及甲基丙二醇中的至少一种化合物。

5.根据权利要求3所述的正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述的非质子极性溶剂是选自二甲基亚砜、N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基咪唑啉酮、及γ-丁内酯中的至少一种化合物。

6.根据权利要求2所述的正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述的非离子表面活性剂，是选自聚氧丙烯乙二醇醚、聚氧丙烯乙基醚、聚氧丙烯甲基醚、聚氧丙稀丁基醚、聚氧乙烯聚丙二醇醚、聚氧乙烯聚丙乙基醚、聚氧乙烯聚丙甲基醚、聚氧乙烯聚丙丁基醚中的至少一种化合物。

7.如权利要求1所述的正型光致抗蚀剂剥离剂组合物在光刻胶剥离中的应用。

8.一种如[式1]所示的化合物：

[式1]，其中R’为氢，或具有1至4个碳原子的烷基。