[发明专利]用于CVD反应器中的电极固定器的保护性装置有效
申请号: | 201210232308.X | 申请日: | 2012-07-05 |
公开(公告)号: | CN102864440A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | B·米勒;H·克劳斯;E·蒙茨;M·索芬 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/24;C01B33/027 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东;谭邦会 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 cvd 反应器 中的 电极 固定器 保护性 装置 | ||
1.用于保护CVD反应器中电极固定器的装置,所述装置包括电极固定器上的适用于容纳丝棒的电极,所述电极固定器由导电材料构成,并且安装在底板的凹进部分中,其中电极固定器与底板之间的中间空间借助于密封材料密封,而密封材料通过保护体保护,保护体由一个或多个部件制得,并以环状方式布置在电极周围,保护体的高度至少在电极固定器方向的区段中增加。
2.权利要求1的装置,其中保护体由多个部件制得,所述部件围绕电极固定器同心布置。
3.权利要求1或2的装置,其中保护体的材料选自以下组中:半透明硅石、银、单晶硅或多晶硅、碳化钨、碳化硅、硅涂敷石墨、CFC复合材料、钨和其它的高熔融金属。
4.权利要求1-3之一的装置,其中保护体至少部分由半透明硅石或银构成。
5.权利要求1-4之一的装置,其中保护体由多个部件制得,所述部件的至少一个由半透明硅石或银构成。
6.权利要求1-5之一的装置,其中密封材料另外受保护体保护,所述保护体围绕电极固定器以环状方式布置在电极固定器与底板之间的中间空间中。
7.用于生产多晶硅的方法,其包括向CVD反应器中引入含有含硅组分和氢气的反应气体,所述CVD反应器含有至少一个丝棒,丝棒位于权利要求1-6之一的装置上,并借助于所述电极向丝棒提供电力,因此,丝棒通过电流直接流过而被加热至硅在丝棒上沉积的温度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦克化学股份公司,未经瓦克化学股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210232308.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种智能双界面卡焊接封装工艺
- 下一篇:气液分离计量装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的