[发明专利]一种 VD 炉真空罐体密封圈保护装置

权利要求书

1.一种VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，包括护板（4）和护板升降系统，护板（4）包括一个用于覆盖密封圈的扇环部，扇环部外侧设置一个用于放置和取出该护板的托持部。

2.根据权利要求1所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，托持部为矩形。

3.根据权利要求1所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，设置立柱（1），立柱（1）通过支架(2)与VD炉罐盖(11)固定连接；护板升降系统包括升降杆（5）、连接杆（6）、转动轴（7）、支撑杆（8），升降杆（5）的上端设有凹槽（10），下端通过转动轴（7）与支撑杆（8）的前端连接，支撑杆（8）的后端固定在真空罐体（12）外壳上；连接杆（6）的下端固定在升降杆（5）上，连接杆（6）的上端固定在护板（4）托持部的底面。

4.根据权利要求3所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，立柱（1）是圆柱体，升降杆（5）上端的凹槽为圆形凹槽。

5.根据权利要求4所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，升降杆（5）的上端圆形凹槽（10）的内径为立柱(1)外径的1.5-1.8倍。

6.根据权利要求3所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，支架(2)与立柱和与VD炉罐盖(11)的固定连接、支撑杆（8）的后端与真空罐体（12）外壳的固定连接，连接杆（6）的下端与升降杆（5）的固定连接，以及连接杆（6）的上端与护板（4）托持部底面的固定连接均采用焊接的方式。

7.根据权利要求3所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，连接杆（6）的下端固定在升降杆（5）的中上部。

8.根据权利要求2-7任意一项所述的VD炉真空罐体密封圈保护装置，其特征在于，护板（4）的扇环部内径为真空罐体(12)上沿凹槽（9）内径的0.8-1.2倍，扇环部的外径为真空罐体(12)上沿凹槽（9）外径的1-1.2倍。