[发明专利]具有通过物理气相沉积法施加的含钇涂层的涂覆的物品及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210229791.6 申请日: 2012-07-04
公开(公告)号: CN102862338A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 倪旺阳;罗纳尔德·M·佩尼切;刘一雄 申请(专利权)人: 钴碳化钨硬质合金公司
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;C23C14/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李帆
地址: 美国宾*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 通过 物理 沉积 施加 涂层 物品 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种涂覆的物品,包括:

一个基底;

一个涂覆方案;

该涂覆方案包括一个通过物理气相沉积施加的PVD涂层区域,其中该涂层区域包含铝和钇和氮以及至少一种选自下组的元素,该组由以下各项组成:钛、锆、铪、钒、铌、钽、铬、钼、钨和硅;并且

其中该铝和钇的含量的总数是在该铝、该钇和该其他元素总数的约3原子百分比与约55原子百分比之间,并且该钇的含量是在该铝、该钇和该其他元素的总数约0.5原子百分比与约5原子百分比之间。

2.根据权利要求1所述的涂覆的物品,其中该铝和钇的含量的总数是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约25原子百分比与约45原子百分比之间;并且该PVD涂层区域具有的硬度是大于或等于约32Gpa,如根据ISO 14577-1:2002标准程序通过纳米压痕技术使用等于0.25微米的压痕深度来测量的。

3.根据权利要求2所述的涂覆的物品,其中钇含量是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约1.5原子百分比与约4.5原子百分比之间;并且该PVD涂层区域具有的硬度是大于或等于约32Gpa,如根据ISO 14577-1:2002标准程序通过纳米压痕技术使用等于0.25微米的压痕深度来测量的。

4.根据权利要求1所述的涂覆的物品,其中该铝和钇的含量的总数是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约10原子百分比与约15原子百分比之间;并且该PVD涂层区域具有的硬度是大于或等于约33Gpa,如根据ISO 14577-1:2002标准程序通过纳米压痕技术使用等于0.25微米的压痕深度来测量的。

5.根据权利要求1所述的涂覆的物品,其中该铝和钇的含量的总数是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约32原子百分比与约45原子百分比之间;并且该PVD涂层区域具有的硬度是大于或等于约34Gpa,如根据ISO 14577-1:2002标准程序通过纳米压痕技术使用等于0.25微米的压痕深度来测量的。

6.根据权利要求5所述的涂覆的物品,其中钇含量是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约2.5原子百分比与约4.0原子百分比之间;并且该PVD涂层区域具有的硬度是大于或等于约34Gpa,如根据ISO 14577-1:2002标准程序通过纳米压痕技术使用等于0.25微米的压痕深度来测量的。

7.根据权利要求1所述的涂覆的物品,其中该其他元素包含钛,并且其中该钛是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约45原子百分比与约95原子百分比之间。

8.根据权利要求1所述的涂覆的物品,其中该其他元素包含钛,并且其中该钛是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约55原子百分比与约87原子百分比之间;并且该PVD涂层区域具有的硬度是大于或等于约34Gpa,如根据ISO 14577-1:2002标准程序通过纳米压痕技术使用等于0.25微米的压痕深度来测量的。

9.根据权利要求7所述的涂覆的物品,其中该其他元素进一步包括铬或硅中任一种;并且当该其他元素是铬时,该铬是在该铝、该钇、该钛和该铬的总数的约25原子百分比与约40原子百分比之间,并且当该其他元素是硅时,该硅是在该铝、该钇、该钛和该硅的总数的约2原子百分比与约5原子百分比之间。

10.根据权利要求9所述的涂覆的物品,其中该硅是在该铝、该钇、该钛和该硅的总数的约3原子百分比与约4原子百分比之间;该钛是在该铝、该钇、该钛和该硅的总数的约60原子百分比与约65原子百分比之间;该钇是在该铝、该钇、该钛和该硅的总数的约2原子百分比与约3原子百分比之间;该铝和钇的总数是在该铝、该钇、该钛和该硅的总数的约30原子百分比与约35原子百分比之间。

11.根据权利要求1所述的涂覆的物品,其中该其他元素包含铬,并且其中该铬是在该铝、该钇和该其他元素的总数的约25原子百分比与约45原子百分比之间。

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