[发明专利]三光束干涉光刻方法和系统有效
| 申请号： | 201210229255.6 | 申请日： | 2012-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN102736451A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 浦东林;胡进 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光束 干涉 光刻 方法 系统 | ||
1.一种三光束干涉光刻方法，其特征在于，激光束被位相光栅分光成三路光束后在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N，其中，N为大于等于3的奇数，dI为曝光后的光强分布的周期，所述三路光束分别为复振幅相同的第一光束和第二光束以及0级光束。
2.根据权利要求1所述的三光束干涉光刻方法，其特征在于，所述0级光束的复振幅大于等于所述第一光束或第二光束复振幅的2倍。
3.一种应用权利要求1或2所述三光束干涉光刻方法的系统，其特征在于，包括：
激光光源；
扩束准直光学元件，将来自激光光源的激光束准直成平行光；
光学模板，用以控制曝光区域的形状；
位相光栅，对激光束进行分光；
投影光学镜组，接收所述分光后的激光束并将其汇聚到加工工件表面实现干涉曝光；
楔形位相板，控制相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N，其中，N为大于等于3的奇数，dI为曝光后的光强分布的周期。
4.根据权利要求3所述的三光束干涉系统，其特征在于，所述光学模板为掩膜或空间光调制器。
5.根据权利要求3所述的三光束干涉系统，其特征在于，所述投影光学镜组包括第一投影光学镜组和第二投影光学镜组。
6.根据权利要求5所述的三光束干涉系统，其特征在于，所述楔形位相板位于所述第一投影光学镜组和第二投影光学镜组之间，所述楔形位相板位于所述第一光束或第二光束的光路上。
7.根据权利要求3所述的三光束干涉系统，其特征在于，所述三光束干涉系统还包括压电陶瓷驱动装置，所述楔形位相板由该压电陶瓷驱动装置驱动。
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