[发明专利]用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物有效

申请号：	201210229074.3	申请日：	2005-10-25
公开（公告）号：	CN102736418A	公开（公告）日：	2012-10-17
发明（设计）人：	工藤隆范;M·帕德曼纳班;R·R·达莫尔	申请（专利权）人：	AZ电子材料美国公司
主分类号：	G03F7/004	分类号：	G03F7/004;G03F7/00
代理公司：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038	代理人：	柳冀
地址：	美国***	国省代码：	美国;US
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摘要：
搜索关键词：	用于光致抗蚀剂图案上涂覆组合
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【权利要求书】：

1.用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其中所述水性涂料组合物包含含伯胺基的聚合物，并且其中所述组合物不含交联用化合物，以及其中所述组合物使得光致抗蚀剂图案的厚度提高。

2.权利要求1的组合物，其中所述伯胺基通过（C₁-C₁₀）烷基连接到聚合物上。

3.权利要求1的组合物，其中所述能够与所述胺基反应的官能团选自内酯、酸酐和酯。

4.权利要求1-3任一项的组合物，其中所述聚合物是聚烯丙胺。

5.权利要求1-3任一项的组合物，其中所述聚合物选自聚（烯丙胺-共-甲基丙烯酸）、聚（烯丙胺-共-丙烯酸）、聚（烯丙胺-共-丙烯酰胺）、聚（烯丙胺-共-N-烷基丙烯酰胺）、聚（烯丙胺-共-丙烯酸-共-甲基丙烯酸）、聚（烯丙胺-共-丙烯酸-共-丙烯酰胺）、双（3-氨基丙基）封端的聚（氧乙烯）、胺封端的聚（氧化乙烯）和聚（丙二醇）双（2-氨基丙基醚）。

6.权利要求1-3任一项的组合物，其中所述组合物进一步包含水可混溶性溶剂。

7.权利要求4的组合物，其中所述组合物进一步包含水可混溶性溶剂。

8.权利要求5的组合物，其中所述组合物进一步包含水可混溶性溶剂。

9.权利要求1-3任一项的组合物，其中所述光致抗蚀剂聚合物用来在193nm和157nm下成像。

10.权利要求1-3任一项的组合物，其中所述光致抗蚀剂聚合物基于环烯共聚物、环烯/马来酸酐共聚物、环烯/马来酸酐/丙烯酸酯共聚物、丙烯酸酯/金刚烷/内酯共聚物、环烯/氰基丙烯酸酯共聚物、氟化环烯共聚物、环烯/氟化丙烯酸酯共聚物。

11.微电子元件的制造方法，包括：

a）提供具有光致抗蚀剂图案的衬底；

b）用权利要求1-10中任一项的涂料组合物涂覆所述光致抗蚀剂图案；

c）让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应；

d）将没有与移除溶液起反应的涂料的一部分除去。

12.根据权利要求11的方法，其中将所述衬底加热以引起所述涂料与光致抗蚀剂图像起反应。

13.根据权利要求11或12的方法，其中所述移除溶液是包含氢氧化物碱的水溶液。