[发明专利]一种E型磁芯研磨装置无效

专利信息
申请号: 201210228015.4 申请日: 2012-07-04
公开(公告)号: CN102717329A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 任育文 申请(专利权)人: 昆山市达功电子厂
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B37/34
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215325 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 型磁芯 研磨 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及小型变压器生产装置,尤其涉及一种E型磁芯中脚研磨装置。

背景技术

铁氧化体磁芯制作工艺类似于陶瓷产品制作工艺,需要经过高温烧结,在烧结过程中,由于磁粉料配方、压制密度、窑炉烧结气氛等影响,往往会出现烧结后磁芯变形,磁芯底部不平整等不良现象。因磁芯产品对尺寸的精度要求比较严格,须经磨床研磨后方能成品;对于E型磁芯中脚、边脚的研磨,通常是先将边脚磨平,再对比边脚研磨中脚。由于现在的研磨装置,相对高度的调节都是通过手工调节,制品的偏差较大,影响产品合格率,增大了生产成本。

发明内容

发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供一种E型磁芯研磨装置,其对相对高度的调节同时兼具粗调装置和微调装置,能够提高产品的合格率。

技术方案:为解决上述技术问题,本发明的采用技术方案为:

一种E型磁芯研磨装置,包括支座、电机、丝杠螺母机构、微调机构、竖直滑轨、砂轮和隔板,所述电机的外壳通过支架与螺母固定,竖直滑轨固定在支座上,螺母与竖直滑轨相适配、安装在竖直滑轨上,螺杆竖直位置恒定;所述微调机构包括微调螺母板板和微调螺栓,在微调螺母板上设有螺母孔,微调螺母固定在支座上,微调螺栓旋入螺母孔内、且底端压在支座上;所述电机的输出轴水平,砂轮固定在电机的输出轴上;隔板水平放置,在隔板上设置有透孔,所述透孔的宽度大于砂轮的宽度,砂轮位于透孔的正下方。

上述机构的研磨装置,使用时,将E型磁芯放置在隔板上,边脚放置在隔板上透孔两侧的实体处,中脚置于透孔上方,电机输出轴转动时带动砂轮转动磨去中脚一定材料达到研磨的目的;这种隔板和E型磁芯的位置固定,中脚磨去的长度通过调节电机的高度实现;电机的高度通过丝杠螺母机构粗调,通过微调螺母机构微调,由于螺杆竖直位置恒定,旋转螺杆即可带动螺母沿竖直滑轨上下移动,首先调节电机的高度略高于预设高度,再调节微调螺母向下压支架以向下微调电机高度。通过粗细两方调整,能够有效保证电机的高度。

优选的,所述螺杆顶端固定有手轮;通过手动转动手轮即可调节螺母的高度。

优选的,所述微调螺母板上还设有通孔,丝杠穿过通孔,要求通孔的直径略大于丝杠的外径,一方面不至于限制丝杠转动,另一方面限制丝杠不会产生过大的偏动。

优选的,所述微调螺栓为六角螺栓,且微调螺栓的螺栓头上设有内六角孔;这样可以多方位调节微调螺栓。

优选的,该研磨装置还包括加工室,加工室与支座的相对位置固定;在加工室内固定有两个搁架,隔板水平放置在两个搁架上。加工室的设定能够避免研磨过程中产生的碎屑到处溅射。

优选的,在垂直于电机的输出轴的面上设置有竖直滑槽,在电机的外壳上固定有滑板,滑板安装在竖直滑槽内;通过该结构的设定,能够让电机的运行更加稳定。

有益效果:本发明提供的E型磁芯研磨装置,通过粗、细两方面调节砂轮与中脚的相对高度,提高了制品的良率。

附图说明

图1为本发明的俯视结构示意图;

图2为图1的A-A向剖视图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作更进一步的说明。

如图1、图2所示为一种E型磁芯研磨装置,包括支座1、电机2、丝杠螺母机构、微调机构、竖直滑轨6、砂轮10和隔板11,所述电机2的外壳通过支架5与螺母4固定,竖直滑轨6固定在支座1上,螺母4与竖直滑轨6相适配、安装在竖直滑轨6上,螺杆3竖直位置恒定;所述微调机构包括微调螺母板7板和微调螺栓8,在微调螺母板7上设有螺母孔,微调螺母7固定在支座1上,微调螺栓8旋入螺母孔内、且底端压在支座5上;所述电机2的输出轴水平,砂轮10固定在电机2的输出轴上;隔板11水平放置,在隔板11上设置有透孔14,所述透孔14的宽度大于砂轮10的宽度,砂轮10位于透孔14的正下方。

所述螺杆3顶端固定有手轮9;所述微调螺母板7上还设有通孔,丝杠3穿过通孔;通孔的直径大于丝杠的外径;所述微调螺栓8为六角螺栓,且微调螺栓8的螺栓头上设有内六角孔;该研磨装置还包括加工室12,加工室12与支座1的相对位置固定;在加工室12内固定有两个搁架13,隔板11水平放置在两个搁架13上;在垂直于电机2的输出轴的面上设置有竖直滑槽,在电机2的外壳上固定有滑板,滑板安装在竖直滑槽内。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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