[发明专利]一种喷淋装置

说明书

技术领域

本发明涉及喷淋装置技术领域，特别涉及一种喷淋装置。

背景技术

随着半导体市场竞争的日趋激烈，各大半导体厂商对设备的性能和生产效率要求越来越高。清洗机在半导体厂所有设备中所占比重为最大，近些年来单片清洗设备在硅片清洗中应用的越来越广泛。单片清洗设备在清洗硅片的工艺中用到水、碱性试剂、酸性试剂以及甩干过程中用到氮气等，此外由于标准1号液配合兆声波能场能产生良好的清洗效果，使得兆声波清洗的应用也颇为广泛。在当前单片清洗设备中的药液喷淋系统中多是将水、药液、气体以及兆声波发生器等分成多个独立的单元来完成整个硅片的清洗工艺。每个独立的单元在生产工艺过程中独立运动存在以下不足：（1）会造成整个工艺过程不连贯；（2）多个独立单元分别控制会使得控制过程过于复杂；（3）多个独立单元造成设备维护困难；（4）多个独立单元会增加设备的故障发生概率。鉴于此，我们需要有新型的药液喷淋系统来解决这些问题。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是，针对现有技术的不足，提供一种喷淋装置，可使整个清洗工艺过程连贯，减少制造成本、以及设备故障发生率并且可降低维护费用。

（二）技术方案

本发明提供一种喷淋装置，包括：喷淋头、旋转执行机构、升降执行机构和用于容纳喷淋药液的盛接槽，所述喷淋头通过旋转执行机构与升降执行机构连接。

更好地，所述喷淋装置还包括：用于固定喷淋头的固定架，所述固定架与旋转执行机构连接；所述固定架边缘平均设有至少三个调平螺钉。

更好地，所述旋转执行机构包括：摆臂、旋转轴、联轴器和旋转驱动电机，所述摆臂一端与所述固定架连接，另一端与所述旋转轴上端连接，所述旋转轴的下端通过所述联轴器与所述旋转驱动电机连接。

更好地，所述升降执行机构包括：升降电机和安装于所述升降电机上的滑动块。

更好地，所述喷淋头包括：进液或进气孔、用于与所述固定架固定连接的连接孔、集成在喷淋头主体内部的兆声波发生器、喷淋孔、喷淋孔流道和用于所述兆声波发生器穿线和穿管的穿线孔；所述进液或进气孔与所述喷淋孔流道连接；所述喷淋头材质为防腐蚀材料。

更好地，所述喷淋孔流道为光滑圆柱面或曲面或不规则表面。

更好地，所述每个喷淋孔流道与至少2个喷淋孔相对应。

更好地，所述喷淋孔为直孔、锥孔或不规则孔。

更好地，所述盛接槽包括：内侧进液槽、外侧溢流槽、进液孔和排液孔，所述喷淋头在起始位置时浸于盛接槽的内侧进液槽内；所述旋转执行机构和所述升降执行机构为电动或者气动。

更好地，所述喷淋头集成多个兆声波发生器，所述兆声波发生器的半径大于被喷淋物体的半径。

（三）有益效果

本发明的喷淋装置，可使整个清洗工艺过程连贯，减少制造成本、以及设备故障发生率并且可降低维护费用。

附图说明

图1为本发明喷淋装置的整体结构示意图；

图2a为本发明喷淋装置的喷淋头与固定架连接面结构图；

图2b为本发明喷淋装置的喷淋头喷洒面结构示意图；

图2c为本发明喷淋装置的喷淋头纵剖面结构示意图；

图3为本发明喷淋装置的盛接槽剖面立体结构示意图；

图4为本发明喷淋装置的固定架结构示意图；

图5为本发明喷淋装置工艺开始时起始位置结构示意图；

图6为本发明喷淋装置工艺过程时结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。