[发明专利]一种山药的培植法无效
申请号: | 201210217265.8 | 申请日: | 2012-06-27 |
公开(公告)号: | CN103503773A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 刘罗凡 | 申请(专利权)人: | 刘罗凡 |
主分类号: | A01H4/00 | 分类号: | A01H4/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 742500 甘肃省陇*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 山药 培植 | ||
技术领域
本发明涉及一种药用植物的种植方法,属于农业种植领域,具体地说是一种山药的培植法。
背景技术
薯蓣,通称山药。多年生草本植物,茎蔓生,常带紫色,块根圆柱形,叶子对生,卵形或椭圆形,花乳白色,雌雄异株;喜光,耐寒性差。宜在排水良好、疏松肥沃的壤土中生长。忌水涝。地下茎为圆柱形,也可能因为生长地质不同而变形,肉质,肥厚。块根含淀粉和蛋白质,因其营养丰富,自古以来就被视为物美价廉的补虚佳品,既可作主粮,又可作蔬菜。
据生产调查,山药的田间块茎繁殖系数一般为10倍左右,田间品种混杂程度高达40%,严重影响到优良品种的大规模应用和药材品质的一致性和稳定性。山药的种植应尽量避免重茬,一般隔三年轮作一次,并忌种花生、红芋茬。要选择土层深厚疏松肥沃的地块为好,要求上下土质一致,如下层有粘重土层和白沙岗土层,打沟时应彻底打碎,至少1~1.2米土层内不能有粘土、土沙粒等夹层。否则会影响块茎的外观,对品质也有影响。土壤以中性为宜,目前开沟一般都采用机械开沟。
生产上,山药品种混杂严重,造成栽培技术体系规范化程度不高;而长期以来一直采用块茎繁育的无性繁殖方法进行繁殖,繁殖系数低,严重阻碍了良种推广。
发明内容
本发明的目的在于提供一种山药的培植法,采用该方法能获得大量的山药。
为实现上述目的,本发明所述一种山药的培植法,其特征在于:包括以下步骤:
一、将无病斑、无虫瘿且健壮饱满的山药块放入生化培养箱进行催芽,直至从山药上萌发的芽眼长成0.2~0.4cm高的小芽、或者待全部的芽眼完全萌发;培养条件为:26~28℃暗培养;
二、将上述带芽的山药切割成长×宽×高为0.2cm~0.5cm×0.2cm~0.5cm×0.1cm~0.2cm的带芽块茎;将上述带芽块茎经常规消毒后,接种到含有活性炭的MS培养基上进行培养;培养条件为:16h光照,光照强度10~30umol m-2.s-1,温度为26~28℃;8h暗培养,温度为20~22℃;上述光照和暗培养交替进行;
三、待上述带芽块茎上的小芽长成至0.5~1.5cm高的小苗时,割取上述小苗;
四、将上述小苗接种到诱导块茎培养基上进行培养;培养条件为:16h光照,光照强度10~30u mol m-2.s-1,温度为26~28℃;8h暗培养,温度为20~22℃;上述光照和暗培养交替进行;
五、待上述小苗长成至最小处直径为0.2~0.5cm的类球形小块茎时,将上述类球形小块茎接种到块茎增殖培养基使其生长,直至长成所需的规格;生长条件为:16h光照,光照强度10~30umolm-2.s-1,温度为26~28℃;8h暗培养,温度为20~22℃;上述光照和暗培养交替进行。
六、待步骤三所得的带芽块茎重新长出0.5~1.5cm高的小苗时,割取上述小苗;并重复依次进行步骤四和步骤五。
所述步骤二中的含有活性炭的MS培养基为:MS基本培养基+2~3%焦糖+0.5~0.9%琼脂+0.05~0.2%活性炭,pH为5.5~6.0。
所述含有活性炭的MS培养基的制作方法具体如下:以MS基本培养基作为基础,分别加入糖、琼脂和活性炭,均匀混合,利用1mol/L的KOH或1mol/L的HC1调节pH为5.5~6.0;每1L的MS基本培养基中加20~30g糖、5~9g琼脂和0.5~2.0g活性炭。
作为本发明的山药的培植法的进一步改进,步骤4)中的诱导块茎培养基为:MS基本培养基+0.01~0.5mg/1萘乙酸+2~3%糖+0.5~0.9%琼脂+0.05~0.2%活性炭,pH为5.5~6.0。
上述诱导块茎培养基的制作方法具体如下:以MS基本培养基作为基础,分别加入萘乙酸(NAA)、糖、琼脂和活性炭,均匀混合,利用1mol/L的KOH或1mol/L的HC1调节pH为5.5~6.0;每1L的MS基本培养基加入0.01~0.5mgNAA、20~30g糖、5~9g琼脂和0.5~2.0g活性炭。
作为本发明的山药的培植法的进一步改进,步骤五中的块茎增殖培养基为:1/2MS基本培养基+0.01~0.5mg/1NAA+2~3%糖+0.5~0.9%琼脂+0.05~0.2%活性炭,pH为5.5~6.0。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于刘罗凡,未经刘罗凡许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210217265.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。