[发明专利]一种可抑制颗粒沉积的硅晶片精抛光组合液及其制备方法

权利要求书

1.一种可抑制颗粒沉积的硅晶片精抛光组合液，其特征在于，该精抛光组合液包括胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒、含羟基和/或胺基的表面保护剂、碱性化合物、表面活性剂和去离子水；该精抛光组合液的pH值为8～12。

2.根据权利要求1所述的精抛光组合液，其特征在于，该精抛光组合液的组分配比为：

所述的胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒两者的比例为12～400∶1。

3.根据权利要求1或2所述的精抛光组合液，其特征在于：所述的二氧化硅的平均粒径为18～80nm。

4.根据权利要求1或2所述的精抛光组合液，其特征在于：所述的胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒的水溶性聚合物为瓜尔胶、黄原胶、海藻酸钠、羧甲基淀粉、醋酸纤维素、羧甲基纤维素、磺酸乙基纤维素、羧甲基羟乙基纤维素、甲基纤维素、羧乙基甲基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羟丁基甲基纤维素、羟乙基纤维素、脂类改性的羟乙基纤维素或脂类改性的羟丙基纤维素中的一种或几种。

5.根据权利要求1或2所述的精抛光组合液，其特征在于：所述的所述含羟基和/或胺基的表面保护剂为，聚乙烯醇、聚乙烯醇与聚苯乙烯嵌段共聚物、聚乙二醇、聚氧化乙烯、聚氧化乙烯和环氧乙烷-环氧丙烷嵌段共聚物、聚丙烯酸、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、异丙醇胺、四乙基胺、二乙基三胺、三乙基四胺、羟乙基乙二胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种或几种。

6.根据权利要求1或2所述的精抛光组合液，其特征在于：所述的碱性化合物为，氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸铵、碳酸氢铵、碳酸氢钾、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸钠、氨水、氨基丙醇、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、三甲基羟乙基氢氧化铵、二甲基二羟乙基氢氧化铵、无水哌嗪或六水哌嗪中的一种或几种。

7.根据权利要求1或2所述的精抛光组合液，其特征在于：所述的表面活性剂为非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂或阳离子表面活性剂中的一种或几种。

8.根据权利要求8所述的精抛光组合液，其特征在于：所述的非离子表面活性剂为聚二甲基硅氧烷、聚氧乙烯(9)月桂醇醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、聚氧丙烯聚氧乙烯嵌段共聚物中的一种或几种；阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠，α-烯烃磺酸钠、丁二酸二异辛酯磺酸钠、脂肪醇(10)聚氧乙烯、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠中的一种或几种；阳离子表面活性剂为十四烷基二甲基苄基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵、瓜耳胶羟丙基三甲基氯化铵、溴化十二烷基三甲基铵、溴化十二烷基二甲基苄基铵中的一种或几种。

9.根据权利要求1-2所述的组合液，其特征在于：所述的胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒5.1005wt％，其中，胶体二氧化硅5wt％，水溶性聚合物为瓜尔胶0.005wt％和羟乙基纤维素0.1wt％；表面保护剂为三乙基胺0.04wt％，表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚0.004wt％，碱性化合为物氨水1.0wt％，去离子水余量。

10.一种可抑制颗粒沉积的硅晶片精抛光组合液的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

按比例称取胶体二氧化硅和水溶性聚合物，按物理共混方式将两者混合均匀，并用搅拌器匀速搅拌，制备出胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒；

将胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒分散于去离子水中，并用搅拌器充分搅拌；

加入含羟基和/或胺基的表面保护剂，在搅拌器中使其与复合磨粒充分混合；

依次加入表面活性剂和碱性化合物，并将精抛光组合液pH调节至8～12；

用孔径为0.5μm以下的滤芯对精抛光组合液进行过滤，去除精抛光组合液中的大颗粒杂质。