[发明专利]一种碳纳米管的取向方法及取向装置

权利要求书

1.一种碳纳米管取向的方法，步骤包括：

（1）根据碳纳米管类型及尺寸、预期排布方式和释放方式，匹配碳纳米管取向轨迹和运动轨迹，设计电场结构参数、电学参数和碳纳米管释放装置、电场与预期基体（3）的相对位置； 

（2）布设碳纳米管释放装置、电场和预期基体（3）；

（3）电场通电，释放碳纳米管，碳纳米管在电场作用下完成取向，覆盖到预期基体（3）表面，实现碳纳米管的定向排布。

2.根据权利要求1所述碳纳米管取向的方法，其特征在于：对于单壁碳纳米管，其取向电场强度范围为1.5×10⁴v/m~9×10⁵v/m。

3.根据权利要求1所述碳纳米管取向的方法，其特征在于：对于多壁碳纳米管，其取向电场强度范围为3.2×10⁴v/m~9×10⁵v/m。

4.根据权利要求1至3任一项所述碳纳米管取向的方法，其特征在于：所述的碳纳米管均匀分散于液体中。

5.根据权利要求1至3任一项所述碳纳米管取向的方法，其特征在于：所述的碳纳米管以干燥形式释放。

6.根据权利要求5所述碳纳米管取向的方法，其特征在于：所述的碳纳米管释放方式选自喷射、吹扫或自由撒落中的一种。

7.一种实现权利要求1所述碳纳米管取向方法的取向装置，其特征在于：包括碳纳米管释放装置和电场装置，所述释放装置所释放碳纳米管的运动轨迹穿过所述电场装置。

8.根据权利要求7所述的取向装置，其特征在于：所述的碳纳米管释放装置和电场装置的相对位置固定。

9.根据权利要求7或8任一项所述的取向装置，其特征在于：所述的电场装置包括设置于所述预期基体（3）周围的金属电极（1）以及设置在释放装置前端的电场管段（4）。