[发明专利]一种抗皮肤光老化制剂及其应用有效

专利信息
申请号: 201210206686.0 申请日: 2012-06-20
公开(公告)号: CN103505374A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 郑锦芬 申请(专利权)人: 郑锦芬;陆春;深圳市神蜂科技开发有限公司
主分类号: A61K8/365 分类号: A61K8/365;A61Q19/08
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 罗瑶
地址: 510630 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 皮肤 老化 制剂 及其 应用
【说明书】:

技术领域

本申请涉及抗皮肤衰老制剂领域,特别是涉及王浆酸在抗皮肤光老化制剂,如抗光老化护肤品、化妆品、药妆品中的应用。

背景技术

皮肤老化主要包括内源性老化和外源性老化。外源性老化是指皮肤受环境因素影响而引起的衰老变化,因以紫外线(Ultraviolet,UV)辐射的影响为主,故又称为光老化。长波紫外线(UVA)和中波紫外线(UVB)均可造成光老化。由于UVB对皮肤的灼伤作用较UVA强1000倍,长期以来UVB一直被认为是导致光老化的主要光谱。然而,最近的研究表明UVA才是引起皮肤光老化的主要光谱。

皮肤光老化的主要临床表现是皮肤皱纹、粗糙、干燥、松弛、毛细血管扩张、脆性增加和色素沉着。长期日光照射可影响皮肤的多种细胞成分和组织结构改变,其中最具特征性的变化是真皮细胞外基质成分的改变。真皮细胞外基质包括胶原纤维、弹力纤维、氨基多糖和蛋白多糖等,其中I型胶原蛋白是其主要结构蛋白。在光老化皮肤,I型与III型胶原纤维减少、紊乱,弹性纤维变性、变粗,聚集成块,氨基多糖裂解,导致皮肤松弛、皱纹的发生。

皮肤光老化的发生机制尚未完全明了,但是基质金属蛋白酶(Matrix metalloproteinases,MMPs)表达增高或活性增强是胶原纤维等基质成分降解的重要机制。MMPs是一组含锌蛋白酶家族,由MMP-1、MMP-2、MMP-3等25名成员组成。根据其底物特异性以及它们分泌后是可溶性蛋白还是细胞膜结合蛋白将其分为胶原酶类、明胶酶类、基质溶素和膜型MMPs。在正常人体皮肤表达的19种MMPs中,只有三种对UV照射做出反应而被显著诱导,即MMP-1、MMP-3和MMP-9。UV照射24小时后,MMP-1和MMP-3 mRNA水平显著增高,而MMP-9 mRNA水平仅有适度增高。

UV照射诱导的MMPs在皮肤光老化真皮细胞外基质成分的降解过程中发挥着重要的作用。紫外线照射皮肤后可诱导角质形成细胞和成纤维细胞分泌多种基质金属蛋白酶酶原,并通过调节酶原的活化及基质金属蛋白酶抑制剂的表达使其转化成有活性的MMPs。活化的MMPs可以降解几乎所有的真皮细胞外基质成分,引起皮肤松弛、皱纹形成等皮肤光老化改变。

不同类型的MMP降解不同的真皮基质蛋白。例如,MMP-1降解I、II和III型胶原蛋白,MMP-9降解IV、V胶原蛋白和明胶,而MMP-3则有更广泛的底物特异性,它可以降解多种类型的胶原蛋白以及基质分子,如蛋白多糖、层粘连蛋白和纤维连接蛋白。对于胶原蛋白,尤其是I型和III型胶原蛋白,首先由MMP-1启动胶原纤维断裂,然后被升高的MMP-3和MMP-9进一步降解。因此,长期的UV照射会导致MMPs产生过量,继而降解胶原蛋白等细胞外基质成分,引起皮肤松弛、皱纹形成等皮肤光老化改变。

在人皮肤,UV可诱导表皮的角质形成细胞和真皮的成纤维细胞表达MMPs,其中角质形成细胞是MMPs的主要细胞来源。UV照射诱导MMPs基因表达涉及复杂的细胞信号通路,其中最重要的就是MAPK和NF-κB信号通路,前者与转录因子AP-1的活化有关,后者与转录因子NF-κB的活化有关。活化的AP-1和NF-κB可分别与多种MMPs启动子的AP-1和NF-κB位点结合而诱导MMPs的表达。已经证实,UV激活的AP-1刺激角质形成细胞和成纤维细胞MMP-1和MMP-3的转录。由于MMP-1和MMP-3两者启动子具有相似的结构,UVB照射后活化的AP-1分别与MMP-1和MMP-3启动子的AP-1位点结合导致MMP-1和MMP-3的转录。UV照射引起的活性氧(Reactive oxygen species,ROS)的产生被认为是激活上述两条信号通路的一个始动环节。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑锦芬;陆春;深圳市神蜂科技开发有限公司,未经郑锦芬;陆春;深圳市神蜂科技开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210206686.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top