[发明专利]一种抗辐射屏幕保护膜及其制作方法

权利要求书

1.一种抗辐射屏幕保护膜，其特征在于：它包括：抗刮层保护膜PET基材（1）、保护膜胶层（2）、抗刮层（3）、主膜PET基材（4）、聚氨酯胶层（5）、纳米材料层（6）、PET基材（7）、安装胶层（8）和安装胶保护膜PET基材（9）；

其中，PET基材（7）的非电晕面上涂布纳米材料层（6），主膜PET基材（4）的电晕面上涂布聚氨酯胶层（5），纳米材料层（6）与聚氨酯胶层（5）复合；PET基材（7）的电晕面上涂布安装胶层（8），安装胶保护膜PET基材（9）与之复合；主膜PET基材（4）的非电晕面上涂布抗刮层（3）；抗刮层保护膜PET基材（1）的电晕面上涂布保护膜胶层（2）；保护膜胶层（2）与抗刮层（3）复合；

其中，所述的纳米材料层（6）中的纳米材料为纳米金属、纳米氧化物、纳米氮化物、纳米碳化物、纳米氟化物、纳米硫化物、纳米锑化物、纳米硒化物、纳米碲化物中的任意一种或任意两种以上无机化合物的组合物。

2.根据权利要求1所述的一种抗辐射屏幕保护膜，其特征在于：所述的纳米金属为钨；所述的纳米氧化物为氧化铟锡、二氧化钛、二氧化钒、氧化铝、四氧化三铁或氧化锌中的一种或多种；纳米氮化物为纳米氮化钛；纳米碳化物为纳米碳化钛；纳米氟化物为纳米氟化镁；纳米硫化物为纳米硫化锌；纳米锑化物为纳米氧化锡锑；纳米硒化物为硒化镉；纳米碲化物为纳米碲化镉。

3.根据权利要求2所述的一种抗辐射屏幕保护膜，其特征在于：所述纳米材料层（6）的纳米材料粒径范围为1~300nm。

4.根据权利要求1至3任一项所述的一种抗辐射屏幕保护膜，其特征在于：所述的纳米材料层（6）通过磁控溅射法、高温蒸镀法或化学沉积法与PET基材（7）紧密结合。

5.一种根据权利要求1所述的抗辐射屏幕保护膜的制作方法，其特征在于：制作方法的具体步骤如下：

（1）、在10 um～45um的PET基材（7）的非电晕面上通过磁控溅射法、高温蒸镀法或化学沉积法涂布一层2 um～3 um的纳米材料层（6）；

（2）、在60 um～280um的主膜PET基材（4）的电晕面上涂布一层4um～20um 的聚氨酯胶层（5），再把纳米材料层（6）与聚氨酯胶层（5）复合，然后在PET基材（7）的电晕面上涂布一层10um～40 um的安装胶层（8）；

（3）、用12 um～50 um的安装胶保护膜PET基材（9）的非电晕面与安装胶层（8）复合； 

（4）、然后再在主膜PET基材（4）的另外一侧上通过UV设备涂布一层2 um～8 um的抗刮层（3）；

（5）、最后在12 um～50um抗刮层保护膜PET基材（1）的电晕面上涂布一层5 um～20 um的保护膜胶层（2），涂好之后与抗刮层（3）复合，即得本发明所述产品。