[发明专利]利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法无效
申请号: | 201210204173.6 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN102691093A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 韩晓军;毕洪梅;王磊;刘丹青 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C25F3/12 | 分类号: | C25F3/12;C25F3/14;G03F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 电化学 技术 实现 氧化 表面 快速 腐蚀 图案 方法 | ||
1.利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述方法如下:
(1)ITO表面清洗:ITO玻璃片经乙醇和蒸馏水分别超声清洗后氮气吹干,经等离子清洗机处理待用;
(2)通过塑封机将所用光刻胶在ITO基底上压成保护膜,直接放置所用图案的掩膜,经过紫外曝光显影,定型洗涤后形成所需图案;
(3)利用电化学技术,以稀盐酸为腐蚀液,采用循环伏安法或计时电流法对ITO表面进行光刻胶外裸露ITO部分的腐蚀;
(4)经电化学腐蚀后的ITO玻璃片经碱溶液洗涤,除去保护的光刻胶膜,N2吹干,得到图案化的ITO表面。
2.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(2)中,光刻胶为AM175或AM150。
3.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(2)中,紫外曝光显影时间为2~5s。
4.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(2)中,定型温度为65℃,时间为4~10 min;洗涤时间为7~15s。
5.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(3)中,腐蚀液为体积比为1:5的稀盐酸溶液。
6.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(3)中,采用循环伏安法时,扫描电压范围为﹣0.1~0.6V,扫速为0.1V/s,时间为5min。
7.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(3)中,采用计时电流法时,扫描电压为﹣2V,扫速为0.01V/s,时间为2min。
8.根据权利要求1所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述步骤(4)中,碱溶液洗涤时间为2~8min。
9.根据权利要求1或8所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述碱溶液为Na2CO3溶液。
10.根据权利要求9所述的利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法,其特征在于所述Na2CO3溶液质量百分比浓度为1~4%。
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