[发明专利]一种光学纯高喜树碱中间体的制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201210204092.6 申请日: 2012-06-19
公开(公告)号: CN102702213A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 张万年;缪震元;祝令建;盛春泉;姚建忠 申请(专利权)人: 中国人民解放军第二军医大学
主分类号: C07D491/147 分类号: C07D491/147;C07D491/22
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 丁振英
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 喜树碱 中间体 制备 方法 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种光学纯高喜树碱中间体R-CDE环(I)的制备方法,其化学结构如下:

式中R1为氢或含C1~C5的直链烷基,

具体步骤为:

1)将化合物(III)溶解于溶剂配制成溶液,在强碱催化下,与磷酰基乙酸三乙酯经HWE反应生成反式α,β-不饱和酯化合物(IV):

其中,R1为氢或含C1~C5的直链烷基,R2和R3为相连的或不相连的含C1~C5的直链或支链烷基,

所说的碱选自氨基钠、叔丁醇钾、氢化钠,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-10℃~35℃,反应时间控制在12~36小时;

2)将反式α,β-不饱和酯化合物(IV)溶解于溶剂配制成溶液,在氮气保护下,选择性还原成丙烯醇化合物(V):

所说的还原剂选自四氢铝锂、二异丁基氢化铝或红铝,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-100℃~-20℃,反应时间控制在2~6小时;

3)将丙烯醇化合物(V)溶解于溶剂配制成溶液,在氮气保护下,采用经典的Sharpless不对称环氧化方法,转化生成化合物(VI):

所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-50℃~-5℃,反应时间控制在6~18小时;

4)将化合物(VI)溶解于溶剂配制成溶液,在氮气保护下,选择性环氧开环反应生成二醇化合物(VII):

所说的还原剂选自四氢铝锂、二异丁基氢化铝或红铝,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-50℃~-5℃,反应时间控制在6~18小时;

5)将二醇化合物(VII)溶解于溶剂配制成溶液,用戴斯-马丁试剂和NaClO2/KH2PO4氧化生成化合物(VIII):

所说的溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇或叔丁醇,反应温度为0℃~60℃,反应时间控制在24~48小时;

6)将化合物(VIII)溶解于溶剂配制成溶液,在酸性条件下水解生成酸,同时脱去酮羰基的保护基团,并环合生成R-CDE环(I):

所说的酸性条件所用的酸选自盐酸、硫酸、磷酸、氢溴酸、硝酸,或醋酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、水杨酸、草酸中的一种或几种,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、乙醇中的一种或几种,反应温度为30℃~100℃,反应时间控制在4~8小时。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于R1为含C1~C5的直链烷基,R2和R3为相连的或不相连的含C1~C5的直链或支链烷基;步骤1)中所用碱为氢化钠,所说的溶剂为四氢呋喃,反应温度为0℃~25℃;步骤2)中所用还原剂为二异丁基氢化铝,所用溶剂为甲苯,反应温度为-80℃~-50℃;步骤3)中所用溶剂为二氯甲烷,反应温度为-30℃~-10℃;步骤4)中所用还原剂为红铝,所用溶剂为二氯甲烷,反应温度为-30℃~-10℃;步骤5)中所用溶剂为叔丁醇,反应温度为20℃-30℃;步骤6)中所用酸为盐酸或三氟乙酸,所用溶剂为乙醇,反应温度为60℃-80℃。

3.权利要求1或2所述方法制备的R-CDE环(I)。

4.权利要求3所述R-CDE环(I)在制备R-高喜树碱类化合物中的应用。

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