[发明专利]一种铜镓/铜铟镓管状阴极靶材的成型方法无效
申请号: | 201210203770.7 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN102703862A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 马步洋;缑彦春;王彬 | 申请(专利权)人: | 江苏美特林科特殊合金有限公司 |
主分类号: | C23C14/14 | 分类号: | C23C14/14;C23C14/35;B22D37/00;B22D27/04;B22C9/24 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 211153 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓 管状 阴极 成型 方法 | ||
技术领域
本发明涉及冶金领域,具体地说是一种铜镓/铜铟镓管状阴极靶的成型方法。
背景技术
能源、环境已成为全球面临的重大问题,近年来各国投入大量资源全力开发太阳能电池,在众多的太阳能电池中,铜铟镓硒薄膜光伏电池作为第二代光伏电池,其主要优点是制造成本低,而光电转换效率高,且抗辐射能力强、性能稳定等。晶硅太阳能电池作为第一代太阳能电池,光电转换效率高,但生产其需要大量的高纯硅材料,而高纯硅的生产过程需要消耗大量的能源,并造成环境污染。薄膜太阳能电池则消耗的材料少得多,有广阔的发展前景。
铜铟镓硒CuInxGa1-xSe2薄膜太阳能电池是薄膜电池中最有发展潜力的电池。它不仅无毒,对环境没有污染,而且具有更高的转换效率。制备CIGS太阳能薄膜电池的方法有很多,其中磁控溅射法是目前应用最多的方法之一,具有溅射速率高、溅射材料与基片结合牢固、薄膜成分控制精准等优点。
磁控溅射法是目前制备CIGS薄膜的主要技术之一,溅射沉积所用的原材料是靶材。不同的靶材得到不同的膜系。高质量的薄膜溅射制备取决于靶材的品质,其中靶材的纯度、致密度、微观组织结构是重要的质量控制点。
目前,制备CIGS太阳能薄膜电池的靶材制造商主要集中在美国、德国及日本。国内制备CIGS薄膜的靶材的主要制造工艺包括粉末冶金和熔融铸造。
(1)粉末冶金工艺制备铜铟镓硒薄膜所需靶材,是将元素粉末或合金粉末按一定配比混合压制并烧结成靶材。粉末冶金法的优点是靶材成分均匀,合金成分比例可调,缺点是密度低、杂质及气体含量高、工艺流程长。常用的粉末冶金工艺包括冷压烧结、热压和热等静压等。
(2)熔融铸造是将合金原料按一定成分配比后熔炼,浇注,形成铸锭。经过冷、热加工成型到所需坯料,机加工制成靶材。常用的熔炼方法有感应熔炼、电弧熔炼、炉外坩埚熔炼等。熔融法制备的靶材杂质含量低,密度高,缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属,普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材,且制备铜铟镓硒所需的部分成分的合金难以进行后续的冷、热加工成型。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术存在的不足,提供一种铜镓/铜铟镓管状阴极靶材及其真空熔铸成型方法,该靶材细化了晶粒,提高材料的致密性,并克服了高、低熔点物相的偏析问题,同时,底浇注特点改善了铜铟/铜铟镓合金铸件的缩孔气孔等缺陷。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案一种铜镓/铜铟镓管状阴极靶的成型方法流程如下:原料铜块、铟块配料装炉——熔炼,熔炼后期通电烘模——精炼——精炼后期,降温结膜,加入镓,电磁搅拌——底浇注——通水激冷成型——至室温脱模——机加工——清洗——真空封装。
具体过程包括以下步骤:
1)将铜块、铟块置于坩埚中,将镓置于合金加料仓;
2)装料完成后,关闭炉门,开启真空泵机组,当炉内真空度小于10Pa时,开始加热,进入熔炼期,熔炼期真空度在1Pa以下,熔炼温度为800℃~1150℃,待料熔化至约占全部料的2/3时,开始通电烘模,烘模温度为200~400℃,烘模约半小时左右。
3)熔炼期完成后,进入精炼期,精炼温度为850℃~1200℃,精炼时间为10 ~20min,精炼10~20min后,降温至720℃~1050℃、结膜,加入原料镓,进行电磁搅拌3~5min;
4)搅拌完成后进行浇注,浇注温度为820℃~1200℃,采用底浇注,浇注于管状模具中;
5)浇注完成后进行冷却,冷却至室温后出炉,拆卸模具,得到铜镓/铜铟镓合金管状坯料;
6)根据产品形状及尺寸要求,对成型后的管坯机加工,得到最终尺寸的管状靶材,对管状靶材进行超声波清洗,待干燥后真空封装,至此,得到能用于光伏材料的铜镓/铜铟镓合金管状阴极靶成品。
所述步骤1)中铜块和铟块、镓的纯度均在99.99%以上。
所述步骤1)中配料比例为按重量百分比铜:铟、镓=50%~90%:10%~50%
所述步骤1)中先在坩埚底部放置铜块,然后再坩埚中上部放置铟块,装料紧密,防止“搭桥”。
所述步骤2)中熔炼期真空度为0.01Pa~1 Pa。
所述成型方法采用的浇注系统包括真空浇注腔室,在真空浇注腔室中设有底浇注管,在底浇注管的内侧设有冷却水夹层,在底浇注管的外侧设有烘模用发热体,在冷却水夹层的底部和上部分别设有进水口和出水口。
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