[发明专利]通信射频器件及其滤波器有效

专利信息
申请号: 201210201129.X 申请日: 2012-06-18
公开(公告)号: CN103515678A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 孙尚传;卢天宙;张桂瑞;钟志波;李贤祥 申请(专利权)人: 深圳市大富科技股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P1/201;H01P1/208;H01P5/00;H01P11/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 丁建春
地址: 518104 广东省深圳市宝安区沙井街道蚝乡路*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 通信 射频 器件 及其 滤波器
【权利要求书】:

1.一种滤波器,其特征在于,包括间隔设置的第一腔体和第二腔体、以及竖直安装于所述第一腔体底部的第一介质谐振器和竖直安装于所述第二腔体底部的第二介质谐振器,所述滤波器还包括:

耦合窗口,设于所述第一腔体和所述第二腔体之间以使得所述第一腔体和所述第二腔体连通;

耦合件,贯穿所述耦合窗口,所述耦合件两端分别与所述第一腔体侧壁、第二腔体侧壁连接,且所述耦合件的两端分别位于所述耦合窗口、所述第一介质谐振器以及所述第二介质谐振器三者形成的中心线的两侧,以使所述第一介质谐振器与所述第二介质谐振器实现反极性耦合。

2.根据权利要求1所述的滤波器,其特征在于,所述耦合件包括第一耦合部、第二耦合部以及连接所述第一耦合部和所述第二耦合部的衔接部,所述第一耦合部与所述第一腔体的侧壁电性连接,所述第二耦合部与所述第二腔体的侧壁电性连接,所述衔接部贯穿所述耦合窗口;

其中,所述第一介质谐振器产生的磁场部分穿过所述耦合件与所述第一腔体侧壁形成的第一等效磁通环圈且所述第二介质谐振器产生的磁场部分穿过所述耦合件与所述第二腔体侧壁形成的第二等效磁通环圈。

3.根据权利要求2所述的滤波器,其特征在于,所述滤波器还包括多个传输腔体以及竖直安装于所述多个传输腔体内的多个传输谐振器,所述第一腔体、所述多个传输腔体和所述第二腔体依序连通,使得所述第一介质谐振器、所述多个传输谐振器和所述第二介质谐振器依序进行信号耦合传输。

4.根据权利要求3所述的滤波器,其特征在于,所述第一介质谐振器和所述第二介质谐振器为横电模陶瓷介质谐振器,所述第一介质谐振器与所述第二介质谐振器在同一时间产生的磁场的方向相反。

5.根据权利要求2所述的滤波器,其特征在于,所述耦合件的材料为金属,所述衔接部悬空贯穿所述耦合窗口。

6.根据权利要求5所述的滤波器,其特征在于,所述第一耦合部、所述第二耦合部与所述衔接部一体成型。

7.根据权利要求6所述的滤波器,其特征在于,所述耦合件呈“Z”型或“S”型。

8.根据权利要求2所述的滤波器,其特征在于,所述第一腔体侧壁设有第一连接部,所述第一耦合部与所述第一连接部相连接;所述第二腔体侧壁设有第二连接部,所述第二耦合部与所述第二连接部相连接。

9.根据权利要求8所述的滤波器,其特征在于:

所述第一腔体侧壁还设有用于与所述第一耦合部配合的第一导槽,所述第一导槽的一端与所述第一腔体的开口相平齐,另一端设置有所述第一连接部;

所述第二腔体侧壁还设有用于与所述第二耦合部配合的第二导槽,所述第二导槽的一端与所述第二腔体的开口相平齐,另一端设置有所述第二连接部。

10.一种通信射频器件,其特征在于,所述通信射频器件包括根据权利要求1~9任一项所述的滤波器,所述滤波器设于所述通信射频器件的信号收发电路部分,用于对信号进行选择,所述通信射频器件为单工器、双工器、分路器、合路器或塔顶放大器。

11.一种滤波器,其特征在于,包括间隔设置且依序连通的第一腔体、第二腔体、第三腔体和第四腔体,以及竖直安装于所述第一腔体底部的第一介质谐振器、竖直安装于所述第二腔体底部的第二介质谐振器、竖直安装于所述第三腔体底部的第三介质谐振器和竖直安装于所述第四腔体底部的第四介质谐振器,所述第一介质谐振器、所述第二介质谐振器、所述第三介质谐振器和所述第四介质谐振器依序实现信号耦合传输,所述滤波器还包括:

耦合窗口,设于所述第一腔体和所述第四腔体之间以使得所述第一腔体和所述第四腔体连通;

耦合件,贯穿所述耦合窗口,所述耦合件两端分别与所述第一腔体侧壁、第四腔体侧壁连接,且所述耦合件的两端分别位于所述耦合窗口、所述第一介质谐振器以及所述第四介质谐振器三者形成的中心线的两侧,以使所述第一介质谐振器与所述第四介质谐振器实现反极性耦合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市大富科技股份有限公司,未经深圳市大富科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210201129.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top