[发明专利]一种母板取向膜的制作方法及转印版、取向液

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)的制造工艺领域，尤其涉及一种母板取向膜的制作方法及转印版、取向液。

背景技术

目前，TFT-LCD已成为信息显示的主流产品，主要由彩膜基板和阵列基板对盒组成，彩膜基板和阵列基板中间充满液晶，为了使液晶分子能够正确地取向，在阵列基板和彩膜基板的表面各涂上一层取向液，取向液在阵列基板和彩膜基板上形成一层取向膜，然后用摩擦布摩擦阵列基板和彩膜基板上的取向膜，通过摩擦，在取向膜表面形成沟槽，使得液晶分子沿沟槽方向有规律排列。

一般的阵列基板和彩膜基板加工过程，通常都是对一块母板上的两块以上基板(阵列基板或彩膜基板)同时进行涂覆取向液操作，最后再将分割母板得到阵列基板或彩膜基板。

涂布取向液的装置如图1所示，首先将取向液101通过喷嘴(Dispenser)102滴加到匀胶辊(Anilox Roll)103与刮刀(Blade Roll)104的接触位置，刮刀104把匀胶辊103上的取向液101涂布均匀，匀胶辊103与带有预先形成图形的转印版105接触，将取向液101转印到转印版105上，最后通过转印版105把取向液101印刷到基台106上的母板107表面形成取向膜108；其中，现有的转印版的侧面示意图如图2所示，平面示意图如图3所示，转印版105包括基膜109和转印层110，转印层110上有两个以上分别与母板上的一基板对应的凸起状的转印区111和位于转印区111之间的非转印区112。

上述涂布取向液的装置，由于各转印区111分别与母板107上的一基板对应，由于各转印区111边缘的取向液101容易积聚，这些边缘积聚的取向液101进一步会转印到基板的显示区域，从而导致基板上取向膜108的膜质不均匀，产生取向膜108不均匀或取向膜108过厚的边缘(Haro)区，使得边缘区的液晶分子不能正常取向，进而会导致基板能够正常工作的显示区域的面积缩小。另一方面，上述转印版105还容易出现取向膜108印偏的问题，从而进一步导致基板能够正常工作的显示区域的面积缩小。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种母板取向膜的制作方法及转印版、取向液，解决目前存在取向膜过厚的边缘区，以及取向膜过厚的边缘区与封框胶区域重叠引起的显示不良问题。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的

本发明提供一种母板取向膜的制作方法，包括：

利用转印版在具有两个以上基板的母板上涂布取向液，使取向液在母板上形成取向膜，所述转印版具有对应覆盖两个以上基板的转印区；

将所述母板上位于基板的显示区域以外且不需保留取向膜的区域的取向膜去除。

上述方法中，

所述取向膜由光加工材料组成；

去除所述取向膜时，先利用掩膜版进行曝光工序，再进行显影工序。

上述方法中，所述取向液由液晶分子取向材料、感光材料、光敏剂和溶剂组成。

上述方法中，所述液晶分子取向材料占取向液的重量比为25-35％，所述感光材料占取向液的重量比为3.5-6％，所述光敏剂占取向液的重量比为0.8-2.5％。

上述方法中，所述液晶分子取向材料为主链型聚酰亚胺和支链型聚酰亚胺中的一种或两种。

上述方法中，所述感光材料为2，3，4，4′-四羟基二苯甲酮1，2-二叠氮基萘醌-5-磺酸酯。

上述方法中，所述光敏剂为重氮萘醌磺酰氯。

上述方法中，所述利用曝光和显影方法去除所述取向膜时，曝光设备发出的紫外光的波长为340nm～460nm，曝光时长为60s～100s。

本发明还提供一种转印版，所述转印板具有对应覆盖两个以上基板的转印区。

本发明还提供一种取向液，所述取向液由液晶分子取向材料、感光材料、光敏剂和溶剂组成。

上述取向液中，所述液晶分子取向材料占取向液的重量比为25-35％，所述感光材料占取向液的重量比为3.5-6％，所述光敏剂占取向液的重量比为0.8-2.5％。

上述取向液中，所述液晶分子取向材料为主链型聚酰亚胺和支链型聚酰亚胺中的一种或两种。

上述取向液中，所述感光材料为2，3，4，4′-四羟基二苯甲酮1，2-二叠氮基萘醌-5-磺酸酯。

上述取向液中，所述光敏剂为重氮萘醌磺酰氯。