[发明专利]光源装置和图像投影装置有效

专利信息
申请号: 201210193074.2 申请日: 2012-06-12
公开(公告)号: CN102841494A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 前田育夫 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G03B21/00;G03B21/14;F21V13/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;郭凤麟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光源 装置 图像 投影
【权利要求书】:

1.一种光源装置,包括:

光源单元,包括由激光器和与所述激光器对应的耦合透镜构成的多个组,所述多个组被沿着周向设置从而形成圆圈;以及

反射单元,所述反射单元被放置在所述圆圈内,并且具有多个与所述光源单元的多个组中的激光器对应的反射表面以形成为锥形,从每个激光器照射的光经由对应的耦合透镜投射到对应的反射表面。

2.如权利要求1所述的光源装置,还包括:

所述多个光源单元;以及

支撑件,所述多个光源单元和所述反射单元被固定在所述支撑件上,从而使得从所述多个光源单元的激光器照射的光投射到所述反射单元的对应反射表面。

3.如权利要求2所述的光源装置,

其中,所述光源单元中的一个光源单元中的由激光器及耦合透镜构成的组和所述光源单元中的另一光源单元中的由激光器及耦合透镜构成的组在平面图中被交替地放置。

4.如权利要求1所述的光源装置,还包括:

支撑件,所述多个组中的激光器和耦合透镜被固定在所述支撑件上,

其中,所述多个组中的激光器和耦合透镜被放置为使得从所述激光器照射的光的光轴指向所述支撑件的厚度方向。

5.如权利要求4所述的光源装置,还包括:

多个反射镜,被设置来改变从对应激光器照射且通过所述耦合透镜去往所述反射单元的对应反射表面的光的光路。

6.如权利要求5所述的光源装置,还包括:

辐射件,被设置在所述支撑件中的与形成从所述多个组中的激光器照射的光的光路的一侧相对的表面上,并且包括形成在中心部分处的平面、被设置在所述平面的外侧处以从所述平面凹陷的导引表面、以及被设置为竖立在所述导引表面上的多个鳍部。

7.如权利要求5所述的光源装置,还包括:

辐射件,被设置在所述支撑件中的与形成从所述多个组中的激光器照射的光的光路的一侧相对的表面上,并且具有沟道。

8.一种图像投影装置,包括:

如权利要求1所述的光源装置;

光量平衡单元,用于使得由所述光源装置的反射单元的反射表面反射的光量相等;

透光光学系统,用于将从所述光量平衡单元输出的光透射到形成图像的图像形成面板上;以及

投影光学系统,用于投影在所述图像形成面板上形成的图像的已放大图像。

9.如权利要求8所述的图像投影装置,还包括:

所述多个光源装置,

其中,从所述光源单元照射且由所述光源装置的反射单元的对应反射表面反射的光投射到所述光量平衡单元。

10.如权利要求8所述的图像投影装置,还包括:

漫射单元,用于使所述光漫射。

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