[发明专利]制造离散轨道磁记录介质的方法无效

专利信息
申请号: 201210192665.8 申请日: 2008-08-04
公开(公告)号: CN102759853A 公开(公告)日: 2012-10-31
发明(设计)人: 金海成;李明馥;孙镇昇 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F1/80;G11B5/84
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制造 离散 轨道 记录 介质 方法
【权利要求书】:

1.一种制造离散轨道磁记录介质的方法,包括以下步骤:

(a)在基底上顺序地形成下层、记录层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层,第一图案具有形成同心圆的线图案以预定间隔被重复布置的结构;

(b)将光照射到金属层的表面上,以激发表面等离子体激元,使得表面等离子体激元传递的光能的分布使光致抗蚀剂层的位于金属层的图案之间的中部被曝光,以使光致抗蚀剂层被曝光成第二图案;

(c)去除被图案化的金属层并对光致抗蚀剂层进行显影;

(d)利用被图案化成第二图案的光致抗蚀剂层作为掩模来蚀刻记录层。

2.如权利要求1所述的方法,其中,第二图案的图案密度大于第一图案的图案密度。

3.如权利要求1所述的方法,其中,在步骤(a)中,在基底上顺序地形成下层、记录层、光致抗蚀剂层和金属层的步骤包括以下步骤:

在光致抗蚀剂层上顺序地形成金属层和聚合物层;

在聚合物层中形成第一图案;

利用被图案化成第一图案的聚合物层作为蚀刻掩模来蚀刻金属层并去除聚合物层。

4.如权利要求3所述的方法,其中,利用压印法或电子束光刻法将聚合物层图案化成第一图案。

5.如权利要求1所述的方法,其中,在步骤(b)中,将光照射到金属层的表面上的步骤包括照射偏振光,其中,偏振方向与第一图案被重复布置的方向对齐。

6.如权利要求5所述的方法,其中,在相对于所述同心圆的对称轴转动基底的同时,穿过起偏振片照射光,其中,所述起偏振片的偏振轴沿着第一图案被重复布置的方向。

7.如权利要求6所述的方法,其中,在驱动起偏振片使起偏振片沿着所述同心圆的半径方向移动的同时照射光。

8.如权利要求1所述的方法,其中,在步骤(b)中,将光照射到金属层的表面上的步骤包括:照射波长比第一图案的线图案之间的间隔大的光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210192665.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top