[发明专利]曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该单元的曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该曝光单元的曝光方法。 

背景技术

将掩模的曝光图案曝光转印至基板上的接近式曝光是通过以工件卡盘保持表面上涂布有感光剂的透光性基板（被曝光件），以例如数十μm～数百μm的间距接近至保持于掩模载置台的掩模保持框上的掩模，向掩模照射图案曝光用光，并将描绘于掩模上的曝光图案转印到基板上的光刻技术来实施。 

另外，作为用于将掩模的曝光图案曝光转印到液晶面板或半导体等基板上的曝光装置，提出了各种能够实现处理能力的提高的方案（例如参照专利文献1、2）。 

专利文献1所记载的曝光装置采用接近式曝光方式，具有：分别使曝光位置和加载/卸载位置移动的两台工件台；能够将工件向各加载/卸载位置搬入和搬出的两台机械手（robot）；在一个工件台上的工件进行曝光的期间，能够在另一个工件台进行工件的搬入和搬出。另外，在该曝光装置中，使用一张掩模，对基板的一面进行单次曝光，或将一面分为多个照射区域进行曝光。 

另外，专利文献2所述的曝光装置配置有两个对准光学系统和投影光学系统，以对晶片等2张被曝光基板进行并行曝光和对准信息检测。 

进而，在专利文献3所述的曝光装置中，公开了利用与单台式装载台装置相同程度的占地面积（footprint），能够使两个装载台移动的装载台装置，在一个装载台处于曝光动作期间，另一个装载台进行晶片的更换和对准中的至少一个动作。 

专利文献1：日本特开2008-158545号公报 

专利文献2：日本特开2000-40662号公报时 

专利文献3：日本特开2003-17404号公报 

发明内容

发明要解决的课题 

另一方面，一张基板经曝光后再切割以制造多个面板，但在对玻璃进行热处理之际，无法对玻璃内部实施热处理，因此，经热处理之后再切割的玻璃部分有可能强度不足。特别是以触摸面板方式使用的液晶显示器每次受到人手触摸时，应力会反复作用在其上，有可能发生破损。因此，相对于曝光处理后对基板的切割，更希望预先对与液晶显示器中采用的尺寸相匹配的基板进行热处理后再曝光，并要求这些基板能够高效曝光。 

特别是在基板上对第一层图案进行一次性曝光的情况下，在基板与掩模之间不进行对准的条件下执行曝光，通常，针对一张或多张掩模，进行一张基板的曝光，期望处理能力的提高。 

在专利文献1、2所述的曝光装置中，通过以与曝光动作相同的时机进行基板的搬入/搬出动作或对准动作，实现了处理能力的提高，但并未解决上述课题。 

另外，在专利文献1、3所述的曝光装置中，通过与曝光动作同时的并行处理，可实现处理能力的提高，但要求多个基板的曝光动作本 身更有效地进行。 

本发明是鉴于上述课题而提出，其目的在于，提供一种能够实现处理能力的提高，并能够更有效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、以及曝光单元和使用该单元的曝光方法。 

本发明的上述目的通过下述结构来达到。 

（1）一种曝光装置，具有：用于保持具有图案的掩模的掩模载置台；具有用于保持作为被曝光件的多个基板的工件卡盘的基板载置台；以及借助上述掩模的图案向上述基板照射曝光用光的照明光学系统； 

其特征在于，在保持于上述工件卡盘的上述多个基板和保持于上述掩模载置台的上述掩模图案对向配置的状态下，从上述照明光学系统照射上述曝光用光，由此将上述掩模的图案曝光到上述多个基板上。 

（2）根据（1）所述的曝光装置，其特征在于，上述掩模具有多个图案，上述照明光学系统借助上述掩模的多个图案向上述多个基板照射曝光用光，在保持于上述工件卡盘的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模的各图案对向配置的状态下，从上述照明光学系统照射上述曝光用光，由此将作为第一层的上述掩模的各图案单次曝光到上述多个基板上。 

（3）根据（1）所述的曝光装置，其特征在于，上述基板是预先与液晶显示器所采用的尺寸匹配的基板。 

（4）根据（2）或（3）所述的曝光装置，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一搬送装置和第二搬送装置配置在互不相同的方向上。 

（5）根据（2）或（3）所述的曝光装置，其特征在于，能够向所 述工件卡盘存取的第一、第二搬送装置夹着上述基板载置台并相互接近地串联配置。