[发明专利]电连接结构有效

专利信息
申请号: 201210189741.X 申请日: 2012-06-08
公开(公告)号: CN103137588A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 庄曜群;黃昶嘉;林宗澍;郭正铮;陈承先 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 连接 结构
【权利要求书】:

1.一种结构,包括:

第一开口,具有第一尺寸,所述第一开口形成在第一钝化层中;

第二开口,具有第二尺寸,所述第二开口形成在第二钝化层中;

接合焊盘,具有第三尺寸,其中,所述接合焊盘嵌入在所述第一钝化层和所述第二钝化层中;

保护层,形成在所述第二钝化层上,所述保护层包括具有第四尺寸的第三开口;以及

顶部金属连接件,具有第五尺寸,所述顶部金属连接件形成在所述接合焊盘的下方,其中:

所述第三尺寸大于所述第二尺寸;

所述第二尺寸大于所述第四尺寸;

所述第四尺寸大于所述第五尺寸;以及

所述第五尺寸大于所述第一尺寸。

2.根据权利要求1所述的结构,进一步包括连接件,所述连接件形成在所述接合焊盘上。

3.根据权利要求2所述的结构,进一步包括导电沟道,所述导电沟道由所述连接件、所述接合焊盘和所述顶部金属连接件形成。

4.根据权利要求1所述的结构,其中,所述接合焊盘是铝接合焊盘。

5.一种器件,包括:

衬底,包含硅;

第一金属层,形成在所述衬底上方;

第一介电层,形成在所述第一金属层上;

第二金属层,形成在所述第一介电层上;

第一钝化层,形成在所述第二金属层上方,其中,具有第一尺寸的第一开口形成在所述第一钝化层中;

第二钝化层,形成在所述第一钝化层上方,其中,具有第二尺寸的第二开口形成在所述第二钝化层中;

接合焊盘,具有第三尺寸,其中,所述接合焊盘嵌入在所述第一钝化层和所述第二钝化层中;

保护层,形成在所述第二钝化层上,所述保护层包括具有第四尺寸的第三开口;以及

顶部金属连接件,具有第五尺寸,所述顶部金属连接件形成在所述接合焊盘下面,其中:

所述第三尺寸大于所述第二尺寸;

所述第二尺寸大于所述第四尺寸;

所述第四尺寸大于所述第五尺寸;以及

所述第五尺寸大于所述第一尺寸。

6.根据权利要求5所述的器件,进一步包括第一金属线,所述第一金属线形成在所述第一金属层中。

7.根据权利要求6所述的器件,进一步包括第二金属线,所述第二金属线形成在所述第二金属层中。

8.一种方法,包括:

在金属层上方形成第一钝化层;

在所述第一钝化层中形成具有第一尺寸的第一开口;

在所述第一钝化层上方形成第二钝化层;

在所述第二钝化层中形成具有第二尺寸的第二开口;

形成具有第三尺寸的接合焊盘,其中,所述接合焊盘嵌入在所述第一钝化层和所述第二钝化层中;

在所述第二钝化层上形成保护层,所述保护层包括具有第四尺寸的第三开口;以及

在所述接合焊盘的下方形成具有第五尺寸的顶部金属连接件,其中:

所述第三尺寸大于所述第二尺寸;

所述第二尺寸大于所述第四尺寸;

所述第四尺寸大于所述第五尺寸;以及

所述第五尺寸大于所述第一尺寸。

9.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:

在所述接合焊盘上形成连接件。

10.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:

形成导电沟道,所述导电沟道包括所述连接件、所述接合焊盘和所述顶部金属连接件。

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