[发明专利]电连接结构有效
| 申请号: | 201210189741.X | 申请日: | 2012-06-08 |
| 公开(公告)号: | CN103137588A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
| 发明(设计)人: | 庄曜群;黃昶嘉;林宗澍;郭正铮;陈承先 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/60 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 连接 结构 | ||
1.一种结构,包括:
第一开口,具有第一尺寸,所述第一开口形成在第一钝化层中;
第二开口,具有第二尺寸,所述第二开口形成在第二钝化层中;
接合焊盘,具有第三尺寸,其中,所述接合焊盘嵌入在所述第一钝化层和所述第二钝化层中;
保护层,形成在所述第二钝化层上,所述保护层包括具有第四尺寸的第三开口;以及
顶部金属连接件,具有第五尺寸,所述顶部金属连接件形成在所述接合焊盘的下方,其中:
所述第三尺寸大于所述第二尺寸;
所述第二尺寸大于所述第四尺寸;
所述第四尺寸大于所述第五尺寸;以及
所述第五尺寸大于所述第一尺寸。
2.根据权利要求1所述的结构,进一步包括连接件,所述连接件形成在所述接合焊盘上。
3.根据权利要求2所述的结构,进一步包括导电沟道,所述导电沟道由所述连接件、所述接合焊盘和所述顶部金属连接件形成。
4.根据权利要求1所述的结构,其中,所述接合焊盘是铝接合焊盘。
5.一种器件,包括:
衬底,包含硅;
第一金属层,形成在所述衬底上方;
第一介电层,形成在所述第一金属层上;
第二金属层,形成在所述第一介电层上;
第一钝化层,形成在所述第二金属层上方,其中,具有第一尺寸的第一开口形成在所述第一钝化层中;
第二钝化层,形成在所述第一钝化层上方,其中,具有第二尺寸的第二开口形成在所述第二钝化层中;
接合焊盘,具有第三尺寸,其中,所述接合焊盘嵌入在所述第一钝化层和所述第二钝化层中;
保护层,形成在所述第二钝化层上,所述保护层包括具有第四尺寸的第三开口;以及
顶部金属连接件,具有第五尺寸,所述顶部金属连接件形成在所述接合焊盘下面,其中:
所述第三尺寸大于所述第二尺寸;
所述第二尺寸大于所述第四尺寸;
所述第四尺寸大于所述第五尺寸;以及
所述第五尺寸大于所述第一尺寸。
6.根据权利要求5所述的器件,进一步包括第一金属线,所述第一金属线形成在所述第一金属层中。
7.根据权利要求6所述的器件,进一步包括第二金属线,所述第二金属线形成在所述第二金属层中。
8.一种方法,包括:
在金属层上方形成第一钝化层;
在所述第一钝化层中形成具有第一尺寸的第一开口;
在所述第一钝化层上方形成第二钝化层;
在所述第二钝化层中形成具有第二尺寸的第二开口;
形成具有第三尺寸的接合焊盘,其中,所述接合焊盘嵌入在所述第一钝化层和所述第二钝化层中;
在所述第二钝化层上形成保护层,所述保护层包括具有第四尺寸的第三开口;以及
在所述接合焊盘的下方形成具有第五尺寸的顶部金属连接件,其中:
所述第三尺寸大于所述第二尺寸;
所述第二尺寸大于所述第四尺寸;
所述第四尺寸大于所述第五尺寸;以及
所述第五尺寸大于所述第一尺寸。
9.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:
在所述接合焊盘上形成连接件。
10.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:
形成导电沟道,所述导电沟道包括所述连接件、所述接合焊盘和所述顶部金属连接件。
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