[发明专利]未熔硅锭高度的测量系统无效
| 申请号： | 201210189606.5 | 申请日： | 2012-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN102692199A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 周迅;朱成 | 申请（专利权）人： | 苏州禹石自动化工程技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/02 | 分类号： | G01B21/02;C30B29/06;C30B35/00 |
| 代理公司： | 苏州慧通知识产权代理事务所(普通合伙) 32239 | 代理人： | 丁秀华 |
| 地址： | 215125 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 未熔硅锭 高度 测量 系统 | ||
1.一种未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于包括：驱动机构以及通过所述驱动机构所驱动的测定机构，所述测定机构包括气缸、探测固态硅锭的探棒、连接在所述气缸与所述探棒之间的压力传感器以及可编程逻辑控制器，所述压力传感器电性连接至所述可编程逻辑控制器。
2.根据权利要求1所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于：所述驱动机构为电缸。
3.根据权利要求1所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于：所述探棒为石英杆，并且其顶部还设有浮动元件。
4.根据权利要求1所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于还包括触摸屏，所述触摸屏与所述可编程逻辑控制器相电性连接。
5.根据权利要求1所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于：所述气缸设有活塞杆。
6.根据权利要求5所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于：所述气缸的顶部安装有光电传感器。
7.根据权利要求1所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于还包括基架，所述驱动机构安装在所述基架上。
8.根据权利要求7所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于：所述基架上安装有电线保护链。
9.根据权利要求1所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于还包括可沿着所述电缸进行运动的运动底板，所述测定机构固定安装在所述运动底板上。
10.根据权利要求1至9任一项所述的未熔硅锭高度的测量系统，其特征在于其安装在熔炉的上盖上。
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