[发明专利]显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种显示装置，包括：

主基板，该主基板包括

具有主表面的主基底、

设置在所述主表面上的波长选择透过层、和

设置在所述波长选择透过层上的电路层；以及

光控制层，该光控制层与所述主基板层叠且具有可变的光学特性，

所述波长选择透过层包括：

下侧反射层；

设置在所述下侧反射层上的上侧反射层；

设置在所述下侧反射层和所述上侧反射层之间的第一间隔物层；以及

第二间隔物层，该第二间隔物层设置在所述下侧反射层和所述上侧反射层之间，以使其与平行于所述主表面的所述第一间隔物层并置，且具有与所述第一间隔物层的厚度不同的厚度，

所述电路层包括：

第一像素电极，该第一像素电极包括沿着垂直于所述主表面的第一方向观察时与所述第一间隔物层重叠的部分；

第二像素电极，该第二像素电极包括沿着所述第一方向观察时与所述第二间隔物层重叠的部分；

第一开关元件，该第一开关元件与所述第一像素电极连接；以及

第二开关元件，该第二开关元件与所述第二像素电极连接。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

在所述波长选择透过层的包括所述下侧反射层、所述第一间隔物层、和所述上侧反射层在内的第一区域中，第一波长波段中的光透过，且除了所述第一波长波段以外的波长波段中的可见光的光反射，并且

在所述波长选择透过层的包括所述下侧反射层、所述第二间隔物层、和所述上侧反射层在内的第二区域中，与所述第一波长波段不同的第二波长波段中的光透过，且除了所述第二波长波段以外的波长波段中的可见光的光被反射。

3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，

所述第一波长波段包括绿色波长，

所述第二波长波段包括红色和蓝色中的至少一个的波长，并且

所述下侧反射层的与所述第二间隔物层相对的部分的厚度小于所述下侧反射层的与所述第一间隔物层相对的部分的厚度。

4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述下侧反射层的与所述第二间隔物层相对的部分的厚度与所述下侧反射层的与所述第一间隔物层相对的部分的厚度不同。

5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述下侧反射层包括：

第一电介质膜；以及

第二电介质膜，该第二电介质膜在所述第一方向上与所述第一电介质膜重叠，且具有与所述第一电介质膜的折射率不同的折射率。

6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述第一电介质膜和所述第二电介质膜中的一个电介质膜与所述第一间隔物层和所述第二间隔物层相接触，并且

所述一个电介质膜的与所述第二间隔物层相接触的部分的厚度不同于所述一个电介质膜的与所述第一间隔物层相接触的部分的厚度。

7.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述第一电介质膜和所述第二电介质膜中的一个电介质膜与所述第一间隔物层和所述第二间隔物层相接触，并且

所述一个电介质膜的折射率低于所述第一间隔物层的折射率且低于所述第二间隔物层的折射率。

8.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述第一电介质膜设置有多个，

所述第二电介质膜设置有多个，并且

多个第一电介质膜和多个第二电介质膜在所述第一方向上交替层叠。

9.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述第一电介质膜和所述第二电介质膜包括氧化硅、氮化硅、和氧氮化硅中的至少一个，并且

所述第一电介质膜所包含的氧和氮中的至少一个的含量与所述第二电介质膜所包含的氧和和氮中的至少一个的含量不同。