[发明专利]辐射源和光刻设备

权利要求书

1.一种辐射源，包括：

燃料源，配置成将燃料输送至等离子体发射位置、用于通过激光束蒸发以形成等离子体；

收集器，配置收集通过等离子体发射的EUV辐射并引导所述EUV辐射朝向中间焦点，所述收集器还包括衍射光栅，所述衍射光栅配置成衍射通过等离子体发射的红外辐射，和

位于中间焦点前的辐射导管，所述辐射导管包括通过向内变细的主体或向内呈锥形的主体连接至出口孔的入口孔，所述辐射导管包括内部部分和外部部分，所述内部部分比所述外部部分靠近中间焦点，其中所述内部部分配置成将入射的衍射红外辐射反射朝向所述外部部分。

2.如权利要求1所述的辐射源，其中，所述内部部分包括反射结构，且所述外部部分包括吸收结构。

3.如权利要求1所述的辐射源，其中，所述内部部分包括多个面，所述多个面取向成使得它们将入射的衍射红外辐射反射朝向所述外部部分。

4.如权利要求3所述的辐射源，其中，所述多个面取向成使得它们将第一级入射的衍射红外辐射反射朝向所述外部部分。

5.如权利要求3或4所述的辐射源，其中，所述多个面中的至少一部分面相对于辐射导管的锥形角界定小于70°的角。

6.如权利要求4所述的辐射源，其中，所述多个面中的至少一部分面相对于辐射导管的锥形角界定小于61°或更小的角。

7.如权利要求3-6中任一项所述的辐射源，其中，所述多个面围绕辐射导管的内部沿辐射源的光轴的基本上横向的方向延伸。

8.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中，所述外部部分包括多个脊，所述多个脊远离中间焦点地成角度。

9.如权利要求1-7中任一项所述的辐射源，其中，所述外部部分包括第一吸收结构和第二吸收结构。

10.如权利要求9所述的辐射源，其中，所述第二吸收结构包括多个面，所述多个面配置成接收从辐射导管的内部部分反射的红外辐射，并反射该红外辐射跨经辐射导管。

11.如权利要求9或10所述的辐射源，其中，所述第二吸收结构具有锯齿形状。

12.如权利要求11所述的辐射源，其中，所述第二吸收结构包括多个面，它们基本上彼此垂直并且取向成使得它们反射回已经跨经辐射导管传播的红外辐射。

13.如权利要求9-12中任一项所述的辐射源，其中，所述第一吸收结构包括多个脊，所述多个脊远离中间焦点地成角度。

14.一种辐射源，包括：

燃料源，配置成输送燃料至等离子体发射位置、用于通过激光束蒸发以形成等离子体；

收集器，配置收集通过等离子体发射的EUV辐射并引导EUV辐射朝向中间焦点，所述收集器还包括衍射光栅，所述衍射光栅配置成衍射通过等离子体发射的红外辐射，和

位于中间焦点前的辐射导管，所述辐射导管包括通过向内变细的主体或向内呈锥形的主体连接至出口孔的入口孔，所述辐射导管包括内部部分和外部部分，所述内部部分比所述外部部分靠近中间焦点，其中所述内部部分包括反射结构，且所述外部部分包括吸收结构。

15.一种光刻设备，包括：如权利要求1-14中任一项所述的辐射源；

照射系统，配置成调节辐射束；

支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化辐射束；

衬底台，构造成保持衬底；和

投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。