[发明专利]纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜

权利要求书

1.一种纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜由里至外包括有机硅胶层、偏振防窥视膜层、粘合剂层、PET薄膜层和防炫防指纹纳米涂层。

2.根据权利要求1所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述防炫防指纹纳米涂层是通过如下步骤制备而得的：以氟硅聚合物为基底，加入占氟硅聚合物总重的重量百分比含量为0.5～5%、粒径为50～1000纳米的二氧化硅或碳酸钙粉体，采用原位聚合方法，在所述PET薄膜层表面形成一层具有纳米尺度的微突起的涂层，即所述防炫防指纹纳米涂层。

3.根据权利要求2所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述防炫防指纹纳米涂层的厚度为0.2～3.0微米。

4.根据权利要求3所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述氟硅聚合物为聚三氟丙基甲基环三硅氧烷、聚三氟丙基甲基二氯硅烷、聚二甲基硅氧烷-b-聚七氟丁基甲基丙烯酸酯中的一种或几种。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述偏振防窥视膜层为若干并列布置的横截面为方形的条状光刻胶，所述每条光刻胶之间设置有不透明隔层，所述每条光刻胶的间距为其厚度的一半。

6.根据权利要求5所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述偏振防窥视膜层是通过如下方法制备而得的：

步骤一，紫外光固化处理：在所述有机硅胶层上涂覆一层光刻胶，将紫外光透过光栅照射在光刻胶涂层上，根据光栅的间距调整光刻胶涂层厚度，使厚度保持为间距的两倍；

步骤二，溶解：用有机溶剂溶解步骤一处理后的光刻胶中未被紫外光照射的部分，形成若干条状空穴，所述条状空穴的横截面为方形；

步骤三，填充不透明粒状物：将不透明粒子分散在可室温固化的低粘度树脂中形成混匀液，采用真空吸附的方法，将所述混匀液吸入步骤二所述的条状空穴中，固化，即可。

7.根据权利要求6所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，步骤一中所述光刻胶涂层的厚度为200～1500微米，所述光栅的间距为100～750微米。

8.根据权利要求6所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，步骤一中所述光刻胶为聚乙烯醇月桂酸酯、光敏聚酰亚胺、环氧基紫外负性光刻胶或环化聚异戊二烯－双叠氮型紫外光刻胶。

9.根据权利要求6所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，步骤二中所述有机溶剂为丙酮或乙酸乙酯。

10.根据权利要求6所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，步骤三中所述不透明粒状物为炭黑、二氧化钛或不透明颜料粒子。

11.根据权利要求6所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，步骤三中所述可室温固化的低粘度树脂为环氧树脂或不饱和聚酯。

12.根据权利要求11所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述环氧树脂为双酚A型或缩水甘油酯型环氧树脂与脂肪胺、脂环胺、芳香胺、聚酰胺或酸酐的共混物。

13.根据权利要求11所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述不饱和聚酯为不饱和二元酸、二元醇缩聚而成的具有酯键和不饱和双键的高分子化合物。

14.根据权利要求13所述的纳米防炫抗指纹防窥屏幕保护膜，其特征在于，所述的不饱和二元酸为顺丁烯二酸酐、反丁烯二酸、四氢化邻苯二甲酸酐中的一种或几种；所述的饱和二元酸为邻苯二甲酸酐、间苯二甲酸、己二酸中的一种或几种；所述的二元醇为丙二醇、一缩二乙二醇、一缩二丙二醇中的一种或几种。