[发明专利]一种柠檬砧木的快速繁育方法无效
申请号: | 201210178529.3 | 申请日: | 2012-06-01 |
公开(公告)号: | CN102668856A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 高俊燕;杨世品;岳建强;朱春华;李进学;杜玉霞 | 申请(专利权)人: | 云南省农业科学院热带亚热带经济作物研究所 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01C1/00 |
代理公司: | 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 | 代理人: | 徐玲菊 |
地址: | 678600 云南省德*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柠檬 砧木 快速 繁育 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种柠檬砧木快速繁育方法,属于植物培育技术领域。
背景技术
柠檬含有丰富的柠檬酸,维生素C、B、P、H、E及黄酮类,挥发油,橙皮甙,多种矿物质及微量元素等,是一种营养和药用价值都极高的水果。亚洲适宜种植柠檬的气候区域少,我国具有较大面积的气候区域地,如云南、四川和重庆等地,适宜柠檬的种植及生长。国产柠檬中,一级和二级鲜果平均价格超过4.0元/kg,出口价格在8元/kg以上,远远高于一般柑桔果品。但由于我国柠檬产业起步较晚,1965年全国栽植面积仅为1000亩左右,70年代末在四川安岳、内江等地开始规模化发展,但发展速度缓慢。进入新世纪以来,我国柠檬生产开始进入快速发展时期,面积和产量迅速扩大,近3年来,全国平均每年新增柠檬面积超过4万亩,主要分布在云南德宏,四川安岳和内江,以及重庆万州等地。
云南德宏由于其优越的气候条件、优良的柠檬品质和良好的产业发展基础,被列为柑桔特色生产基地。为了充分发挥柠檬生产的优势,大量需要柠檬砧木苗。然而,现有技术中还难以实现柠檬砧木苗的快速繁育。因此,有必要对现有技术加以改进,以满足生产需要。
发明内容
为解决柠檬砧木苗难以快速繁育的问题,本发明提供一种能加快柠檬砧木种子发芽,提高生长速度,缩短生产周期的柠檬砧木快速繁育方法。
本发明通过下列技术方案实现:一种柠檬砧木的快速繁育方法,其特征在于经过下列各步骤:
(1)在平地上垄起高度为20cm~25cm,宽度为120cm~125 cm的起垄;
(2)按每亩播种140~150kg的量,在步骤(1)的起垄顶上播撒种子,播种后覆盖一层厚度为5~10cm的土层,喷适量水,保湿种子,以利于发芽;再在土层上覆盖厚度为3~5cm的沙,以防止土壤中杂草萌芽;在沙层上覆盖第一层薄膜,用于保温保湿;
(3)在步骤(2)的覆盖有第一层薄膜的起垄两侧,搭建高度是起垄高度的4~5倍,宽度是起垄宽度8~10倍的拱棚,再在该拱棚上覆盖第二层薄膜,以进一步调节微环境温度,提高地温和保墒;
(4)待砧木苗长至高出地面5~8cm后,揭去起垄顶沙层上的第一层薄膜,要防止晴天中午烧苗,当膜内温度达35~40℃时,在下午将膜的两端、四周逐步揭去,同时除去杂草,按常规追肥,待苗齐后,间去密苗、弱苗和病虫苗,使间苗苗距为4~5cm;
(5)待砧木苗长至高出地面10~15cm后,揭去拱棚上覆盖的第二层薄膜,进行炼苗,防止苗木烧死,待苗木长至20~25cm时,带胚移栽至大田,按常规进行苗木嫁接前的管理至得到砧木苗。
所述步骤(1)的平地为地势平坦、土层深厚的晒旱地,或者早茬地,或者有补充灌溉条件的旱地,按常规进行整地。
所述晒旱地需先在6月中下旬浅耕灭茬,7月上旬深耕晒垡,8月下中旬合口过伏,立秋后及时施肥浅犁细耙;并根据产量水平及土壤养分含量,按照以增施有机肥为主,稳氮、控磷、补钾、补锌的常规原则施肥,然后再起垄。
所述步骤(2)的种子为粒大饱满的干燥枳壳种子,并经过下列渗透处理:用质量浓度为75%的甲基托布津稀释1000倍和多菌灵稀释500倍的混合液浸泡砧木种子20~24h,以增加种子活力,提高出苗率,使其出苗整齐。
本发明用第一层薄膜进行保墒集水、提高地温、改善土壤结构,提高土壤肥力,促进根系发育。由于薄膜不透气,且是热的不良导体,使近地面的空气流动不会带走土壤中的热量,同时还能避免降雨对土壤的直接冲刷,使耕层长期保持疏松状态,加之冬春的水热胀缩运动,土壤容重降低,总孔隙度增加;另外薄膜覆盖后,能增高土壤温度,保持稳定的水分含量,为土壤微生物的繁衍创造条件,加速了土壤养分转化,提高土壤肥力,有效改善砧木生长发育的根际生态环境,促进生育进程、营养生长、生殖生长。
尽管第一层薄膜的覆盖,提高了耕层土壤温度,加大了地表与深层之间的温度差,但却影响了气态水的上行,因此本发明用第二层拱棚薄膜,可有效改善第一层薄膜与拱棚薄膜之间的微环境的温、湿度,再通过薄膜对光线的反射作用,有效增加光照强度,提高光能利用率。当第一层薄膜揭去后,通过第二层薄膜继续起到保温保湿作用,提高砧木苗生长速度。本发明的双层薄膜,第一层温度会高于外界温度2~3℃,湿度可达60~85%,第二层调节微环境气温,温度比外界温度高3~5℃,湿度可达60~90%。
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