[发明专利]一种高折射率散射膜的制备方法及应用

权利要求书

1.一种高折射率散射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、制备研磨分散液，所述研磨分散液包括：

高折射率散射颗粒，其质量百分比为：10%-60%，初始粒径为100-800nm；

分散剂，其质量占所述高折射率散射颗粒的1%-60%；

防沉剂，其质量百分比为：0-5%；

光刻胶，其质量百分比为：0-60%；

有机溶剂，其质量百分比为：20%-89.9%；

S2、采用过滤孔孔径在0.8um-1.2um的滤纸压滤所述步骤S1制备的研磨分散液，得到制膜溶液；

S3、所述步骤S2制备的所述制膜溶液经光刻旋涂于基底上；

S4、所述步骤S3中的所述基底在60-80℃下烘烤30分钟，制备得到散射膜。

2.根据权利要求1所述的高折射率散射膜的制备方法，其特征在于：

所述高折射率散射颗粒选自TiO₂、ZrO₂、SiO₂、SiO、TiO中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的高折射率散射膜的制备方法，其特征在于：

所述分散剂采用钛白分散剂。

4.根据权利要求1-3任一所述的高折射率散射膜的制备方法，其特征在于：

所述防沉剂采用钛白防沉剂。

5.根据权利要求1-4任一所述的高折射率散射膜的制备方法，其特征在于：

所述步骤S2所述滤纸为0.8um。

6.根据权利要求1-5任一所述的高折射率散射膜的制备方法，其特征在于：

所述散射层的厚度为0.3um-3um。

7.一种利用权利要求1-5任一所述的高折射率散射膜的制备方法制备的高折射率散射膜。

8.一种将权利要求7所述高折射率散射膜，去除所述基底后贴于OLED器件表面的用途。