[发明专利]混合集成激光器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210175247.8 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN102684072A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 郭霞;武华;韩明夫 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40;H01S5/183
代理公司: 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人: 王秀丽
地址: 100022 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 混合 集成 激光器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种混合集成激光器,包括依次纵向层叠的衬底1,其特征在于,还包括将光实现90度偏转功能的光耦合器2、键合层3和垂直腔面发射激光光源4。

2.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述光耦合器2为光栅耦合器或高对比度光栅结构,实现将垂直入射的光偏转90度的功能;其主要结构包括两个部分,一是光栅结构部分,二是波导结构部分,根据动量守恒定律,当光栅在水平方向的传播常数K1等于波导结构的传播常数K2时,垂直入射的光将发生90度偏转。

3.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述光耦合器2采用硅、二氧化硅、SOI、InP、GaAs或玻璃材料制成。

4.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述键合层3通过直接键合、媒质键合或倒装焊的方式产生。

5.根据权利要求4所述的混合集成激光器,其特征在于,所述媒质采用BCB、ITO或PEDOT导电透光物质。

6.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述垂直腔面发射激光光源4采用GaAs基、InP基、GaN基、ZnO基量子阱、量子线或量子点激光器。

7.根据权利要求6所述的混合集成激光器,其特征在于,所述垂直腔面发射激光光源4为单模或多模器件,其激射波长λ需要与光耦合器2的波导结构的传播常数相匹配,即

8.一种混合集成激光器的制备方法,其特征在于,包括:

在SOI硅片的硅膜上制备出硅光栅耦合器;

利用外延生长的方法制备化合物半导体激光器结构;

在激光器结构上制备成单元器件或者阵列;

将单元器件或者阵列结构与光耦合器对准,并将半导体激光器直接或者间接键合在光耦合器上,将激光耦合到波导中,使得光从垂直方向实现水平方向传输,从而形成有源的激光光源与无源的光耦合器在纵向上集成的光源,用于片上光互连。

9.根据权利要求8所述的混合集成激光器的制备方法,其特征在于,所述制备方法采用的设备包括:MOCVD、MBE、ICP、电子束曝光机、光刻机、蒸发镀膜设备和显微镜。

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