[发明专利]混合集成激光器及其制备方法无效
申请号: | 201210175247.8 | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN102684072A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 郭霞;武华;韩明夫 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01S5/40 | 分类号: | H01S5/40;H01S5/183 |
代理公司: | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人: | 王秀丽 |
地址: | 100022 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 混合 集成 激光器 及其 制备 方法 | ||
1.一种混合集成激光器,包括依次纵向层叠的衬底1,其特征在于,还包括将光实现90度偏转功能的光耦合器2、键合层3和垂直腔面发射激光光源4。
2.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述光耦合器2为光栅耦合器或高对比度光栅结构,实现将垂直入射的光偏转90度的功能;其主要结构包括两个部分,一是光栅结构部分,二是波导结构部分,根据动量守恒定律,当光栅在水平方向的传播常数K1等于波导结构的传播常数K2时,垂直入射的光将发生90度偏转。
3.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述光耦合器2采用硅、二氧化硅、SOI、InP、GaAs或玻璃材料制成。
4.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述键合层3通过直接键合、媒质键合或倒装焊的方式产生。
5.根据权利要求4所述的混合集成激光器,其特征在于,所述媒质采用BCB、ITO或PEDOT导电透光物质。
6.根据权利要求1所述的混合集成激光器,其特征在于,所述垂直腔面发射激光光源4采用GaAs基、InP基、GaN基、ZnO基量子阱、量子线或量子点激光器。
7.根据权利要求6所述的混合集成激光器,其特征在于,所述垂直腔面发射激光光源4为单模或多模器件,其激射波长λ需要与光耦合器2的波导结构的传播常数相匹配,即
8.一种混合集成激光器的制备方法,其特征在于,包括:
在SOI硅片的硅膜上制备出硅光栅耦合器;
利用外延生长的方法制备化合物半导体激光器结构;
在激光器结构上制备成单元器件或者阵列;
将单元器件或者阵列结构与光耦合器对准,并将半导体激光器直接或者间接键合在光耦合器上,将激光耦合到波导中,使得光从垂直方向实现水平方向传输,从而形成有源的激光光源与无源的光耦合器在纵向上集成的光源,用于片上光互连。
9.根据权利要求8所述的混合集成激光器的制备方法,其特征在于,所述制备方法采用的设备包括:MOCVD、MBE、ICP、电子束曝光机、光刻机、蒸发镀膜设备和显微镜。
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