[发明专利]一种多晶硅还原炉

权利要求书

1.一种多晶硅还原炉，包括有炉盘（1），炉筒（4），设置于炉盘上的电极对（3）、进气喷嘴（5）和尾气出口（6），其特征在于：所述炉盘（1）的中部，设置有圆筒结构的导流隔热罩Ⅰ（2）；所述电极对（3）和进气喷嘴（5）均设置在导流隔热罩Ⅰ（2）外侧的炉盘（1）上；所述尾气出口（6）设置在导流隔热罩Ⅰ（2）内侧的炉盘（1）上。

2.如权利要求1所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述导流隔热罩Ⅰ（2）外侧的炉盘（1）上，还设置有导流隔热罩Ⅱ（7），所述导流隔热罩Ⅱ（7）是与导流隔热罩Ⅰ（2）同心的圆筒结构，所述电极对（3）和进气喷嘴（5）均设置在所述导流隔热罩Ⅰ（2）和导流隔热罩Ⅱ（7）之间的炉盘（1）上。

3.如权利要求1或2所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述电极对（3）在导流隔热罩Ⅰ（2）外侧排列形成两层以上的同心圆环，所述同心圆环与导流隔热罩Ⅰ（2）同心，相邻的电极对（3）排列而成的同心圆环之间，还设置有导流隔热罩Ⅲ（8），所述导流隔热罩Ⅲ（8）是与导流隔热罩Ⅰ（2）同心的圆筒结构。

4.如权利要求3所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述导流隔热罩Ⅰ（2）、导流隔热罩Ⅱ（7）和导流隔热罩Ⅲ（8）的高度，均低于电极对（3）上所装夹硅芯的高度。

5.如权利要求4所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述导流隔热罩Ⅰ（2）、导流隔热罩Ⅱ（7）和导流隔热罩Ⅲ（8），上部均设置有吊装孔（10），中部均设置有与炉筒（4）上的观察装置齐平且位于同一直线上的观察孔（9）。

6.如权利要求1或2或4或5所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述导流隔热罩Ⅰ（2）、导流隔热罩Ⅱ（7）和导流隔热罩Ⅲ（8），均主要由隔热导流片（11）组成，所述隔热导流片（11）两侧设置有螺孔（12），各隔热导流片之间通过连接板（13）连接，并使用螺栓固定。

7.如权利要求6所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述导流隔热罩Ⅰ（2）、导流隔热罩Ⅱ（7）和导流隔热罩Ⅲ（8），均采用石英或者陶瓷材料制成，所述螺栓，采用金属钼材料制成。

8.如权利要求1或2或4或5或7所述的多晶硅还原炉，其特征在于：每个所述电极对（3）所在位置的炉盘（1）上，均设置有进气喷嘴（5）。

9.如权利要求1或2或4或5或7所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述进气喷嘴（5）上，均连接有能够将物料分配并引流至每个电极对所在位置的引流喷管（14）。

10.如权利要求9所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述引流喷管（14）主要由喷嘴、弯头、管道和三通或四通顺次相连组成。