[发明专利]一种离子交换制备掩埋光波导用电场辅助装置

说明书

技术领域

本发明属于光通信技术领域，涉及光波导制作技术，尤其是涉及一种离子交换制备掩埋光波导用电场辅助装置。

背景技术

近年来，随着集成光学迅速发展，人们对于光波导的研究越来越深入。在众多种类的光波导中，以玻璃为衬底的光波导使用十分广泛。玻璃光波导的折射率与光纤很接近，适宜与光纤的耦合。选择合适的工艺，可以制得低损耗、能承受高功率密度的玻璃光波导。由于离子交换技术工艺简单、易操作、成木低廉，能够制作复杂的玻璃光波导，目前已成为制作玻璃光波导的首选方案。离子交换技术制备掩埋光波导，通常需要采用电场辅助离子交换。由于之前一直使用圆柱玻璃粘胶法进行横向交换的，此交换过程中，基片表面会产生大量的小气泡，严重影响表面波导的一致性品质。且操作烦锁、时间长、一致性差、击穿率高等缺陷。目前，在众多的生产FTTH的产品中，大都均采用PECVD生长技术生产，其生产设备较为复杂且建厂费用高。

发明内容

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种可提高产品质量、使用寿命长、安全可靠的离子交换制备掩埋光波导用电场辅助装置。

本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：一种离子交换制备掩埋光波导用电场辅助装置，其特征在于，该装置包括熔液槽、金属支架和锁紧螺丝，所述的熔液槽设置在金属支架内，并通过设置在金属支架侧壁的锁紧螺丝锁定，所述的熔液槽由多片交换容器并联组成。

所述的多片交换容器中各片交换容器上均设有注熔盐口，相邻交换容器之间设有绝缘密封垫圈。

所述的多片交换容器中各片交换容器上均设有电极柱，相邻交换容器上的电极柱上设有极性相反的电极。

所述的交换容器可根据需要设置2-10片。

所述的熔液槽由左中右三片交换容器并联组成交换主槽，其中左右两片交换容器上设有电源正极，中间的交换容器上设有公共负极。

所述的金属支架一侧设有金属间隙挡板，该金属间隙挡板与所述的熔液槽之间设有绝缘挡板。

所述的熔液槽底部与金属架之间设有绝缘挡圈。

所述的绝缘挡板、绝缘挡圈、绝缘密封垫圈等绝缘材料，是选用了具有耐高温、耐高压、耐腐蚀材料的聚四氟乙烯制成，从而保证在交换过程中的熔盐不泄漏。交换容器是选用金属制造。

本发明电场辅助装置克服了之前横向交换中产生的基片表面的小气泡所带来的品质质量问题。同时也提高了交换的捷便、稳定、可靠及排除了小气泡带来品质质量问题，更重要的是，此容器使用寿命长，安全、可靠、稳定。并可重复使用，节资降本。与现有技术相比，本发明具有以下优点：

一、使用范围特殊：

此交换容器是选用金属制造，并可在特种场合中使用。如在摄时300℃、400v的状态下，可连续进行交换工作，且耐高温、耐高压、耐腐蚀作用。

二、安全可靠：

此交换容器安装十分简便，使用安全简便、稳定、重复性好。

三、密封绝缘性能好：

此交换容器的密封绝缘材料，是选用了具有耐高温、耐高压、耐腐蚀材料的聚四氟乙烯制成，从而保证在交换过程中的熔盐不泄漏。

四、更换组合方便：

此交换容器的组合十分简便，可任选，单片交换或多片交换。组合方式十分简单且灵活，可随生产工艺需求，灵活组合变交换基片数量。

附图说明

图1为本发明装置的剖视图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。

实施例

如图1所示，一种离子交换制备掩埋光波导用电场辅助装置，该装置包括熔液槽1、金属支架2和锁紧螺丝3，所述的熔液槽1设置在金属支架2内，并通过设置在金属支架2侧壁的锁紧螺丝3锁定，所述的熔液槽1由左中右三片交换容器并联组成交换主槽，各片交换容器上均设有电极柱，其中左右两片交换容器上设有电源正极4，中间的交换容器上设有公共负极5。各片交换容器上均设有注熔盐口6，相邻交换容器之间设有绝缘密封垫圈7。

金属支架2一侧设有金属间隙挡板8，该金属间隙挡板8与所述的熔液槽1之间设有绝缘挡板9。熔液槽1底部与金属架2之间设有绝缘挡圈10。

所述的绝缘挡板9、绝缘挡圈10、绝缘密封垫圈7等绝缘材料，是选用了具有耐高温、耐高压、耐腐蚀材料的聚四氟乙烯制成，从而保证在交换过程中的熔盐不泄漏。交换容器是选用金属制造。

当装配好玻璃基片后，通过锁紧螺丝锁紧，接通电源，将整个容器放入烘箱升温至所需交换之温度时，再将熔液从注熔液口注入，此时容器就能根据生产工艺要求进行交换了。

所述的电场辅助多片交换容器，可在不同的温度及电压情况下施加电场进行交换工作，此交换容器在施加电场的作用下，对基片热气泡的扩散起了很大作用，使得基片表面较为洁净，无气泡沉结，从而起到稳定交换全流程。