[发明专利]光学防伪元件、使用该光学防伪元件的产品及其制备方法

权利要求书

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，所述第一表面上覆盖有微采样工具，所述第二表面的一部分为由微浮雕结构形成的微图文、另一部分为未形成微图文的平坦结构和/或为与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构，未形成微图文的所述平坦结构和与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构上同形覆盖有第一镀层，形成微图文的所述微浮雕结构上同形覆盖有第二镀层，所述微采样工具对所述微图文进行采样。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微采样工具为微透镜阵列。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构包括衍射光栅、随机散射结构和亚波长光栅中的任意一种或其组合。

4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，当所述微采样工具和所述衍射光栅均是一维的时，所述微采样工具的方向与所述衍射光栅的方向之间的夹角位于30度至90度的范围内。

5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一镀层和所述第二镀层的结构是相同或不同的。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，当所述微浮雕结构为大深宽比的亚波长微浮雕结构时，所述第一镀层的结构和所述第二镀层的结构不同。

7.根据权利要求5所述的光学防伪元件，其中，所述镀层包括下述各种镀层中的任意一种或其组合：单层金属镀层；多层金属镀层；由吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层，其中该吸收层与所述微浮雕结构相接触；高折射率介质层镀层；由高折射率介质层、低折射率介质层和高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层；以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层，其中，该吸收层与所述微浮雕结构相接触。

8.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一镀层和/或所述第二镀层上覆盖有隔离层，所述隔离层的表面被平整化。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件，其中，所述隔离层上覆盖有第一吸收层。

10.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一镀层和/或所述第二镀层中形成有镂空结构。

11.一种使用根据权利要求1至10中任一项权利要求所述的光学防伪元件的防伪产品。

12.一种制备根据权利要求1所述的光学防伪元件的方法，该方法包括：

提供基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；

在所述基材的第一表面上形成微采样工具；

在所述基材的第二表面的一部分上形成由微浮雕结构形成的微图文，在所述基材的第二表面的另一部分上形成未形成微图文的平坦结构和/或与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构；以及

在未形成微图文的所述平坦结构和与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构上同形覆盖第一镀层，并在形成微图文的所述微浮雕结构上同形覆盖第二镀层。

13.根据权利要求12所述的方法，该方法还包括：

在所述第一镀层和/或所述第二镀层上形成表面被平整化的隔离层。

14.根据权利要求13所述的方法，该方法还包括：

在所述隔离层上形成第一吸收层。

15.根据权利要求12所述的方法，该方法还包括：

在所述第一镀层和/或所述第二镀层中形成镂空结构。