[发明专利]光学补偿膜及其制造方法

权利要求书

1.一种光学补偿膜，其特征在于包含：

基材；以及

液晶层，配置于该基材上，该液晶层具有第一厚度以及第二厚度以分别定义第一区域以及第二区域，其中该第二区域邻接该第一区域，且该第二厚度大于该第一厚度。

2.如权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于该基材具有表面微结构，且该表面微结构位于该基材邻接该液晶层的一侧。

3.如权利要求2所述的光学补偿膜，其特征在于该表面微结构包含第一微结构以及第二微结构，该第一微结构以及该第二微结构分别位于该第一区域以及该第二区域下方，且该第一微结构的厚度大于该第二微结构的厚度。

4.如权利要求2所述的光学补偿膜，其特征在于该表面微结构为紫外光可硬化树脂所制成。

5.如权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于包含配向膜，该配向膜位于该基材与该液晶层之间，且该配向膜邻接该液晶层。

6.如权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于该液晶层具有第三厚度以定义第三区域，该第三区域邻接该第二区域，且该第三厚度大于该第二厚度。

7.如权利要求6所述的光学补偿膜，其特征在于该基材为双折射性基材，且该第一厚度为1.6μm至1.7μm之间，第二厚度为1.7μm至1.8μm之间，该第三厚度为2.0μm至2.1μm之间。

8.如权利要求6所述的光学补偿膜，其特征在于该基材为光学等向性基材，且该第一厚度为2.3μm至2.4μm之间，第二厚度为2.4μm至2.5μm之间，且该第三厚度为2.7μm至2.8μm之间。

9.一种光学补偿膜，其特征在于包含：

基材；

微结构层，形成于该基材的表面上，该微结构层包含复数个第一微结构以及复数个第二微结构，该复数个第一微结构以及该复数个第二微结构规则排列于该基材上，且每一该第一微结构邻接至少一该第二微结构，其中每一该第一微结构的厚度大于每一该第二微结构的厚度；以及

液晶层，覆盖该微结构层，其中该液晶层在该复数个第一微结构上方以及该复数个第二微结构上方分别具有第一厚度以及第二厚度，且该第一厚度小于该第二厚度。

10.一种制造光学补偿膜的方法，其特征在于包含：

形成紫外光可硬化树脂层于基材上；

以物件印压该紫外光可硬化树脂层，以形成微结构层，其中该微结构层具有第一高度及第二高度，且该第一高度不同于该第二高度；

以紫外光照射该微结构层，使该微结构层硬化；以及

形成液晶层于硬化的该微结构层上方。