[发明专利]一种显示面板及其制造方法和显示器件

权利要求书

1.一种显示面板的制造方法，在基板上形成像素单元层，所述像素单元层包括：由栅线和数据线围成的像素单元及开关单元和覆盖所述像素单元的钝化层，其特征在于，

在所述像素单元层上形成第一光敏高分子层；

对所述第一光敏高分子层进行第一方向的摩擦取向；

对所述第一光敏高分子层进行干燥和光照固化形成第一取向层；

在所述第一取向层上对应反射区的位置形成一层反射层；

在所述第一取向层和所述反射层上形成第二光敏高分子层；

对所述第二光敏高分子层进行第二方向的摩擦取向；

对所述第二光敏高分子层进行干燥处理并通过掩膜板对所述反射层上方的第二光敏高分子层进行光照固化处理形成第二取向层，得到阵列基板；

将所述阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光敏高分子层包括：光敏高分子材料和易挥发有机溶剂。

3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述光敏高分子材料包括：

聚乙烯醇肉桂酸酯、聚乙烯氧肉桂酸乙酯、聚对亚苯基二丙烯酸酯、聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯、二乙烯苯、N，N-亚甲基双丙烯酰胺、双丙烯酸乙二醇酯、安息香酶酯。

4.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述易挥发有机溶剂包括：丙酮、乙醇、环烷烃。

5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述反射层为铝。

6.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第一方向和所述第二方向相同或不同。

7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光照固化为采用紫外线光照固化。

8.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述干燥处理为放置于80℃～100℃的环境中4～6分钟。

9.一种显示面板，包括对盒成型的彩膜基板和阵列基板，其中所述彩膜基板和所述阵列基板之间含有液晶，所述阵列基板包括基板、像素单元层、取向层，其中所述像素单元层包括：由栅线和数据线围成的像素单元及开关单元和覆盖所述像素单元的钝化层，其特征在于，所述取向层包括：

覆盖所述像素单元层的第一取向层；

形成在所述第一取向层上对应反射区位置的反射层；

形成于所述反射层上方的第二取向层。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第二取向层的厚度为所述显示面板的液晶盒厚的二分之一。

11.根据权利要求9所述的显示面板，所述反射层的面积在所述显示面板的每个像素单元上占二分之一。

12.一种显示器件，其特征在于，包括权利要求9～11所述的显示面板。