[发明专利]一种新型的含二苯并噻吩窄带系共轭聚合物材料的制备无效
| 申请号： | 201210162481.7 | 申请日： | 2012-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN103421165A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 李翠红;薄志山;金恩泉 | 申请（专利权）人： | 李翠红;薄志山;金恩全 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;H01L51/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100875 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 含二苯 噻吩 窄带 共轭 聚合物 材料 制备 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型的含氟窄带隙共轭聚合物材料，分别为：
。
2.权利要求1所述材料的方法，主要步骤是：
氮气气氛下，以四氢呋喃和水为溶剂，将4，7-二(5-溴噻吩-2-基)-5，6-二(辛氧基)-[1，2，5]苯并噻二唑和3，6-二(辛氧基)-2，7-二硼酸-二苯并噻吩，摩尔比为1∶1，在四(三苯基膦)钯催化下在100-120℃温度下反应72小时，得到式I结构的含二苯并噻吩的共轭聚合物。
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