[发明专利]用于真空蒸发沉积系统的喷射器

权利要求书

1.一种用于真空蒸发沉积系统的喷射器（3），所述喷射器包括：

喷射导管，所述喷射导管适于接纳来自真空蒸发源（2）的蒸发物质，以及

扩散器（4），所述扩散器包括多个喷嘴以便将所述蒸发物质扩散至真空沉积室（5）中，每一喷嘴包括适于将所述喷射导管连接至所述沉积室（5）的通道（13），

其特征在于，所述扩散器（4）具有空间上变化的喷嘴分布。

2.根据权利要求1所述的喷射器（3），其特征在于，所述喷射器包括至少两个具有不同通道几何形状的喷嘴。

3.根据权利要求1或2所述的喷射器（3），其特征在于，所述扩散器包括至少三个喷嘴，所述至少三个喷嘴沿纵轴排成一线并在两个相邻喷嘴之间具有不同间距。

4.根据权利要求1至3的任一项所述的喷射器（3），其特征在于，至少一个所述喷嘴包括至少一个可拆除的扩散器插入件（9），所述扩散器（4）包括扩散器插入件接纳装置，而所述扩散器插入件（9）包括附接装置（15），所述附接装置适于装配至所述接纳装置。

5.根据权利要求4所述的喷射器（3），其特征在于，所述扩散器插入件（9）包括在所述通道（13）的一端并形成在所述喷射导管内部的至少一个输入孔隙（11、11a、11b、11c）和在所述通道（13）的另一端并形成在所述喷射导管外部的至少一个输出孔隙（12）。

6.根据权利要求4所述的喷射器（3），其特征在于，所述扩散器包括至少一个适于塞住喷嘴的扩散器插入件（9c）。

7.根据权利要求4至6的任一项所述的喷射器（3），其特征在于，所述扩散器（3）接纳装置包括内螺纹，且所述扩散器插入件（9）附接装置包括装配至所述扩散器内螺纹的外螺纹（15）。

8.根据权利要求4至6的任一项所述的喷射器（3），其特征在于，所述扩散器（3）接纳装置包括外螺纹，且所述扩散器插入件（9）附接装置包括装配至所述扩散器外螺纹的内螺纹。

9.一种真空沉积系统，所述系统包括真空蒸发源、根据权利要求1至8的任一项所述的喷射器以及真空沉积室。

10.一种用于校准根据权利要求1至8的任一项所述的喷射器的方法，所述方法包括以下步骤：

（a）按照初始构型布置扩散器，所述扩散器包括沿纵轴分布的多个喷嘴；

（b）利用处于所述初始构型中的所述扩散器将蒸发物质沉积在基底上；

（c）测量所述沉积物质的均匀度特征；

（d）根据所测的均匀度特征改变所述喷嘴的空间分布，从而减少沉积物质的不均匀度。

11.根据权利要求10所述的方法，所述方法包括对步骤（b）至（d）的重复执行。

12.根据权利要求10或11所述的方法，其中至少一个所述喷嘴包括至少一个可拆除的扩散器插入件，而对所述喷嘴的空间分布的改变包括用另一可拆除的扩散器插入件替换该可拆除的扩散器插入件。

13.用于制造扩散器的方法，所述扩散器用于根据权利要求1至8的任一项所述的用于真空沉积系统的喷射器，所述方法包括以下步骤：

（e）制造用于真空沉积系统的喷射器，所述喷射器包括扩散器，所述扩散器包括沿纵轴排成一线的至少多个扩散器插入件接纳装置，

（f）制造包括附接装置的可拆除的扩散器插入件，所述附接装置适于装配至所述扩散器的所述接纳装置，

（g）将所述可拆除的扩散器插入件组装至所述扩散器。

14.用于制造扩散器的方法，所述扩散器用于真空沉积系统的喷射器，所述方法包括以下步骤：

（h）提供包括扩散器的喷射器，所述扩散器包括喷射导管和沿纵轴排成一线的至少多个扩散器插入件接纳装置；

（i）利用扩散流动模型模拟扩散器插入件的扩散特征；

（j）根据每一插入件沿所述扩散器的纵轴的各自的位置来校正一组多个插入件的扩散特征；

（k）将希望的扩散特征与该组扩散器插入件的模拟的扩散特征比较；

（l）根据希望的扩散特征确定扩散器插入件的分布；

（m）将包括附接装置的扩散器插入件插入对应的接纳装置中，所述附接装置适于装配至所述扩散器的所述接纳装置。