[发明专利]一种脱硫用分子印迹材料及其制造方法

权利要求书

1.一种脱硫用分子印迹材料，其制造液的质量百分比配方为：

乙烯基吡啶单体            2～10％；

模板分子                  1～5％；

溶剂                      85～97％，各组分之和为100％。

2.根据权利要求1所述的分子印迹材料，其特征在于所述的乙烯基吡啶单体为/4-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶中的至少一种；所述的模板分子为苯并噻吩、二苯并噻吩、二甲基二苯并噻吩至少一种；所述的溶剂为苯、甲苯中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的分子印迹材料的制造方法，其包括如下步骤：将乙烯基吡啶单体、模板分子和溶剂混合，在20℃下搅拌4～8小时，制得混合均匀的制造液；然后向体系中加入交联剂和添加剂，交联剂用量为制造液中模板分子用量的1～5倍，引发剂用量为制造液中模板分子用量的1/10～1/5，在20℃下搅拌2～5小时；将制得的混合均匀的制造液置于恒温水浴槽中，在60～80℃下加热反应16～24h，完成聚合反应；对得到的产物用洗脱液洗脱2～4h，洗脱液用量为制造液中溶剂用量的2～5倍，样品在60～80℃下干燥处理即得分子印迹材料。

4.根据权利要求3所述的分子印迹材料的制造方法，其特征在于所述的交联剂为乙二醇双甲基丙烯酸酯、二乙烯基苯中的至少一种；添加剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、过氧化苯甲酰中的至少一种；洗脱液为甲醇、乙酸、乙醇或者其组合。