[发明专利]用于线性输送的基底的可变的加热或冷却的动力系统有效
| 申请号: | 201210154370.1 | 申请日: | 2012-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN102691049A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
| 发明(设计)人: | S·D·费尔德曼-皮博迪;F·H·西摩尔;E·J·利特尔;M·J·帕沃尔;C·拉思韦格 | 申请(专利权)人: | 初星太阳能公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52;C23C14/22;C23C14/54 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 严志军;谭祐祥 |
| 地址: | 美国科*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 线性 输送 基底 可变 加热 冷却 动力 系统 | ||
1.一种系统(100),用于分立的线性输送的基底(108)的可变的加热或冷却,其补偿所述基底中的边缘引起的温度差异,所述系统包括:
腔室(102);
所述腔室内的输送器(132),用于以输送速率移动所述基底通过所述腔室,相对于通过所述腔室的输送方向(128),所述基底具有前缘(110)和后缘(112);
多个单独控制的温度控制单元(116),沿着所述输送方向线性地设置在所述腔室内;以及,
与所述温度控制单元通信的控制器(118),所述控制器配置成按照所述腔室内的所述基底的所述前缘和后缘相对于所述温度控制单元的位置的函数使来自稳态温度输出的所述温度控制单元的输出沿着所述输送方向连续地循环,以减少所述基底中的边缘引起的温度差异。
2.根据权利要求1所述的系统(100),其特征在于,所述温度控制单元(116)包括加热器单元(120),各个所述加热器单元限定加热区域并包括多个可控制的加热器元件(122)。
3.根据权利要求1所述的系统(100),其特征在于,所述腔室(102)包括多个对齐的处理模块(20,28),所述基底被线性地输送通过所述处理模块,各个所述模块还包括至少一个所述温度控制单元(116)。
4.根据权利要求3所述的系统(100),其特征在于,所述处理模块(20,28)在光伏(PV)模块制造线(10)中限定了预热处理区段(18)或冷却处理区段(26)中的一个。
5.根据权利要求1所述的系统(100),其特征在于,所述控制器(118)配置成:基于预定的基底长度和所述输送器的输送速率,按照移动通过所述腔室的所述基底(108)的所述前缘(110)和后缘(112)的计算的位置的函数,使所述温度控制单元(116)循环。
6.根据权利要求1所述的系统(100),其特征在于,还包括设置在所述腔室中的位置的边缘检测器(124),用以检测基底(108)之间的后缘(110)和前缘(112),所述边缘检测器与所述控制器(118)通信,以向所述控制器提供边缘位置信号。
7.根据权利要求1所述的系统(100),其特征在于,所述控制器(118)配置成按照移动通过所述腔室(102)的所述基底(108)的实际检测的前缘(110)和后缘(112)的函数使所述温度控制单元(116)循环,并且还包括沿着所述输送方向设置在所述腔室内的多个边缘检测器(125,126,127),所述边缘检测器与所述控制器(118)通信。
8.一种系统(10),用于光伏(PV)模块基底(14)上的薄膜层的气相沉积,包括:
真空腔室(16),所述真空腔室还包括配置成用于在被输送通过其的基底的上表面上沉积升华的源材料的薄膜的气相沉积装置(24);
输送器系统(66),可操作地设置在所述真空腔室内,并且配置成用于以受控制的不变的输送速度输送顺序排列的所述基底通过所述气相沉积装置,在相邻的基底之间具有间隙(114);以及,
预热区段(18),沿着所述基底的输送方向设置在所述气相沉积装置的上游的所述真空腔室内,所述预热区段包括:
多个单独控制的加热器单元(21),沿着所述输送方向线性地设置在所述腔室内;以及,
与所述加热器单元中的每一个通信的控制器(52),所述控制器配置成按照所述腔室内的所述基底的所述前缘(110)和后缘(112)相对于所述加热器单元的位置的函数使所述加热器单元的输出连续地循环,以减少所述基底中的边缘引起的温度差异。
9.根据权利要求8所述的系统(10),其特征在于,所述预热区段(18)包括多个对齐的加热器模块(20),所述基底被线性地输送通过所述加热器模块,各个所述加热器模块还包括至少一个所述加热器单元(21),所述控制器配置成按照移动通过所述腔室的所述基底的所述前缘(110)和后缘(112)的计算的位置的函数使所述加热器单元循环。
10.根据权利要求9所述的系统(10),其特征在于,还包括设置在所述腔室中的位置的边缘检测器(125,126,127),用以检测基底(14)之间的后缘(110)和前缘(112),所述边缘检测器与所述控制器(52)通信,以向所述控制器提供边缘位置信号。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





