[发明专利]背照式图像传感器的像素有效
申请号: | 201210151627.8 | 申请日: | 2008-06-27 |
公开(公告)号: | CN102709299A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 朴成炯;李柱日 | 申请(专利权)人: | 智慧投资II有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 美国华*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 背照式 图像传感器 像素 | ||
1.一种背照式图像传感器的像素,所述像素包括:
衬底,具有正上表面和背侧;
光电二极管,配置为响应从所述衬底的所述背侧接收的光以产生光电荷,其中所述光电二极管形成在所述衬底的所述正上表面附近;以及
反射栅极,设置在所述光电二极管之上,并且配置为将从所述衬底的所述背侧接收的光反射到所述光电二极管的前侧,其中所述反射栅极还配置为接收偏压信号,以控制所述光电二极管的耗尽区的范围。
2.根据权利要求1所述的像素,还包括转移晶体管,所述转移晶体管配置为将所述光电荷转移到浮置扩散节点。
3.根据权利要求2所述的像素,其中所述转移晶体管包括与所述反射栅极间隔开的转移栅极,并且所述转移栅极和所述反射栅极设置为与所述衬底的所述正上表面相距实质上相同的距离。
4.根据权利要求2所述的像素,其中所述转移晶体管包括缓冲区域,所述缓冲区域形成在所述衬底中并且与所述反射栅极的边缘垂直地对准。
5.根据权利要求3所述的像素,其中所述转移栅极的一部分与所述反射栅极重叠。
6.根据权利要求1所述的像素,其中所述反射栅极包括堆叠层结构。
7.根据权利要求6所述的像素,其中所述堆叠层结构包括:
多晶硅层;以及
金属层,相邻于所述多晶硅层。
8.根据权利要求7所述的像素,其中所述金属层包括硅化钨层。
9.根据权利要去7所述的像素,其中所述金属层包括钨。
10.根据权利要求1所述的像素,其中所述反射栅极包括单层结构。
11.根据权利要求10所述的像素,其中所述单层结构包括金属硅化物层或者金属层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于智慧投资II有限责任公司,未经智慧投资II有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210151627.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:旋转电机
- 下一篇:一种车身控制器电磁抗扰性能的测试系统及其测试方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的