[发明专利]铈掺杂钒磷酸钇盐发光材料、制备方法及其应用

权利要求书

1.一种铈掺杂钒磷酸钇盐发光材料，其特征在于：其化学式为YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺，其中YV_aP_1-aO₄是基质，Ce³⁺离子是激活元素，a为0.1～0.6，b为0.01～0.05。

2.一种铈掺杂钒磷酸钇盐发光材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

根据YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺各元素的化学计量比称取Y₂O₃，V₂O₅，P₂O₅，和CeO₂粉体并混合均匀，其中a为0.1～0.6，b为0.01～0.05；及

将混合均匀的粉体在900℃～1300℃下烧结0.5小时～5小时即得到化学式为YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺的铈掺杂钒磷酸钇盐发光材料。

3.一种铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜，其特征在于，该铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜的材料的化学通式为YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺，其中YV_aP_1-aO₄是基质，Ce³⁺离子是激活元素，a为0.1～0.6，b为0.01～0.05。

4.一种铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

根据YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺各元素的化学计量比称取Y₂O₃，V₂O₅，P₂O₅，和CeO₂粉体并混合均匀在900℃～1300℃下烧结0.5小时～5小时制成靶材，其中，a为0.1～0.6，b为0.01～0.05；

将所述靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度设置为1.0×10^-3Pa～1.0×10^-5Pa；及

调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm～95mm，磁控溅射工作压强0.2Pa～4Pa，工作气体的流量为10sccm～35sccm，衬底温度为250℃～750℃，接着进行制膜，得到化学式为YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺的铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜。

5.根据权利要求4所述的铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜的制备方法，其特征在于，还包括步骤：将所述铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜于500℃～800℃下真空退火处理1h～3h。

6.根据权利要求4所述的铈掺杂钒磷酸钇盐发光薄膜的制备方法，其特征在于，所述真空腔体的真空度为5.0×10^-4Pa，基靶间距为60mm，磁控溅射工作压强为2Pa，工作气体为氩气，工作气体的流量为25sccm，衬底温度为500℃。

7.一种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光层以及阴极层，其特征在于，所述发光层的材料为铈掺杂钒磷酸钇盐发光材料，该铈掺杂钒磷酸钇盐发光材料的化学式为YV_aP_1-aO₄:bCe³⁺，其中YV_aP_1-aO₄是基质，Ce³⁺离子是激活元素，a为0.1～0.6，b为0.01～0.05。