[发明专利]像素重新生成设备和使用该设备的像素重新生成方法有效

专利信息
申请号: 201210149047.5 申请日: 2012-05-14
公开(公告)号: CN102779953A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 金仙株;李浚政;元载雄;柳旲坤;韩己善;宋宙延;沁明星;李真远;李天载;李孝成;朴愿绪 申请(专利权)人: 株式会社COWINDST
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;B23K26/06
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 像素 重新 生成 设备 使用 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于重新生成有机发光二极管的像素的方法。

背景技术

有机发光二极管(OLED)是一种自发光类型的显示装置,其使用的原理是:当电流流过荧光或磷光有机薄膜时,电子和空穴在有机材料层中结合以产生光。此时,光的颜色根据组成发光层的有机材料而变化。OLED分为被动类型的PMOLED(被动矩阵式有机发光二极管)和主动类型的AMOLED(主动矩阵式有机发光二极管)。PMOLED使用以每次有一行作为整体发光的方式驱动的行驱动方法。与此相比,AMOLED使用发光二极管被单独驱动的单独驱动方法。

参照图1,解释OLED的发光原理,当电压施加到阳极电极4和阴极电极2之间时,由阴极电极2产生的电子通过电子注入层1a和电子传输层1b移动到发光层1c。同样,由阳极电极4产生的空穴通过空穴注入层1e和空穴传递层1d移动到发光层1c。因此,由电子传输层1b和空穴传递层1d提供的电子和空穴在发光层1c重新结合,形成激子。当处于基态中的激子被再次激发时,固定能量的光通过阳极电极4发射到外部,所以显示出图画。

然而,如果OLED的发光层存在导电粒子,则导电粒子影响特定节点,因此对于之前提到的发光,电子和空穴的运动受导电粒子的影响,因此引起发光层缺陷。

发明内容

做出本发明来解决上面提到的问题。本发明的一个目的是提供一种重新生成像素的方法和实现该方法的像素重新生成设备,它通过将激光照射到由于导电粒子造成的有机发光二极管像素缺陷区中并重新生成像素缺陷区,能够保证产品的可靠性,并提高生产量。

作为解决前述问题的一种途径,本发明的另一目的涉及提供一种重新生成有机发光二极管的像素的方法,包括:第一步,将包括第一电极和第二电极的有机发光二极管排列在平台上,所述第一电极和所述第二电极形成于基板上,以将有机发光层放置于其间,并使所述第一电极和所述第二电极彼此交叉;和第二步,通过使用像素重新生成设备将激光照射到所述第一电极和所述第二电极之间的有机发光层中存在导电粒子的区域。

而且,用于重新生成像素的方法的特征在于:所述第二步是将激光照射到具有导电粒子的区域并粉碎导电粒子或将导电粒子与所述第一电极或所述第二电极分离,从而允许除了具有导电粒子的区域之外的像素区发光。

在一个示例性实施例中,所述第二步可以通过将激光直接照射到导电粒子上,粉碎导电粒子本身或将导电粒子与电极分离来实现。

在其它示例性实施例中,所述第二步可通过以下来形成,即将激光照射到具有导电粒子的区域的外围电极,切割电极,并将导电粒子与电极电隔离,使得执行像素的正常操作。

在另一示例性实施例中,所述第二步可以通过以下来实现,即:将激光照射为比导电粒子的尺寸大,并将导电粒子与有机发光层分离,使得像素被正常操作。

在另一示例性实施例中,所述像素重新生成设备照射的激光具有小于10ns的脉冲宽度。

在另一示例性实施例中,所述像素重新生成设备照射的激光在有机发光二极管不包括极化板的情况下具有超过300nm的波长,在有机发光二极管包括极化板的情况下具有超过420nm的波长。

在另一示例性实施例中,一种用于根据本发明的前述结构重新生成有机发光二极管像素的方法的像素重新生成设备,包括:激光振荡部件,用于使激光光束振荡;光束传输部件,用于转换由激光振荡部件照射的激光光束的方向,并将激光光束透射到有机发光二极管的有机发光层;光束尺寸控制部件,用于改变激光光束的尺寸;和图像部件,用于实时拍摄有机发光层的图像。

在另一示例性实施例中,具体地,所述光束尺寸控制部件包括:由马达驱动的狭缝;能够确认狭缝的尺寸和位置的狭缝照明光源;和改变光的路径的狭缝照明用镜。

在另一示例性实施例中,所述像素重新生成设备还包括:扫描器,用于扫描存在导电粒子的区域中的激光光束;和控制光束加工表面的装置以过滤激光光束,使得在加速区和减速区被扫描的激光光束不照射到有机发光层上。

本发明的优势在于:可以通过将激光照射到所述区域来重新生成由于导电粒子引起的AMOLED像素的缺陷区,从而能够保证产品的可靠性,提高生产量。

附图说明

图1图解说明普通OLED的结构。

图2和图3是解释根据本发明的重新生成过程的主题的截面图。

图4和图5图解说明显示根据本发明的重新生成过程的结果的真实图像。

图6-9图解说明根据本发明的像素重新生成设备的示例性实施例。

附图标记

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