[发明专利]一种清洗液及其应用无效
| 申请号： | 201210147877.4 | 申请日： | 2012-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN103387890A | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 何华锋;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/50;B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
1.一种清洗液，包括：含有铁离子的化合物、铁的络合剂和氯化物。
2.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液还含有硫脲。
3.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述含有铁离子的化合物为铁盐。
4.根据权利要求3所述的清洗液，其特征在于，所述铁盐选自硝酸铁、硫酸铁和氯化铁中的一种或多种。
5.根据权利要求3所述的清洗液，其特征在于，所述含有铁离子的化合物含量为0.05～3wt％。
6.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述铁的络合剂为有机羧酸和/或有机磷酸。
7.根据权利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述有机羧酸选自丙二酸、草酸、乙二胺四乙酸盐和柠檬酸中的一种或者多种。
8.根据权利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述有机磷酸选自羟基乙叉二膦酸（HEDP）和氨基三亚甲基膦酸（ATMP）中的一种或多种。
9.根据权利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述铁的络合剂含量为0.05～3wt％。
10.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述氯化物为金属氯化物和/或非金属氯化物。
11.根据权利要求10所述的清洗液，其特征在于，所述金属氯化物为氯化钾和/或氯化钠。
12.根据权利要求10所述的清洗液，其特征在于，所述非金属氯化物为氯化铵。
13.根据权利要求10所述的清洗液，其特征在于，所述氯化物含量为1～4wt％。
14.根据权利要求2所述的清洗液，其特征在于，所述硫脲含量为1～4wt％。
15.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液的pH值为1～4。
16.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液不含有强氧化剂。
17.根据权利要求1-16任一项所述的清洗液应用于清洗化学机械抛光液供料系统。
18.根据权利要求17所述的应用，其特征在于，所述化学机械抛光液为含有银离子的化学机械抛光液。
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